Placa de sílice fundida de bajo coeficiente de expansión térmica de 5-600 mm

La placa de sílice fundida de bajo coeficiente de expansión térmica de 5-600 mm es un material óptico de alto rendimiento con un coeficiente de expansión térmica (CTE) extremadamente bajo, que puede mantener propiedades físicas y ópticas estables en un amplio rango de temperaturas. Este producto está hecho de sílice fundida de alta pureza, que tiene una excelente estabilidad térmica, inercia química y alta transmitancia de luz. Es adecuado para sistemas ópticos de alta precisión, fabricación de semiconductores, tecnología láser y otros campos.

Características clave

-Coeficiente de expansión térmica (CTE) ultrabajo: mantiene la estabilidad dimensional en el rango de -50 °C a +300 °C y reduce la deformación causada por los cambios de temperatura.

-Alta transmitancia óptica: excelente transmitancia de luz en las bandas ultravioleta (UV), luz visible (VIS) e infrarrojo cercano (NIR).

-Alta estabilidad química: resistente a ácidos y álcalis, adecuado para entornos químicos hostiles.

-Alta resistencia mecánica: alta dureza, fuerte resistencia al impacto, adecuada para escenarios de aplicación de alta carga.

-Capacidad de mecanizado de precisión: se pueden proporcionar diferentes tamaños, desde 5 mm hasta 600 mm, para admitir pulido, recubrimiento y otros procesos personalizados de alta precisión.

Aplicación del producto

Las placas de sílice fundida de bajo coeficiente de expansión térmica se utilizan ampliamente en los siguientes campos debido a su excelente rendimiento:

1. Sistema óptico de alta precisión

-Óptica láser: utilizada para resonadores láser, espejos, piezas de ventanas, etc., para asegurar la transmisión estable de los rayos láser.

-Telescopio astronómico: utilizado como sustrato de lente para reducir el impacto de los cambios de temperatura en la calidad de la imagen.

-Interferómetro y espectrómetro: proporcionan una referencia óptica estable y mejoran la precisión de la medición.

2. Fabricación de semiconductores y microelectrónica.

-Óptica de la máquina de litografía: en la litografía ultravioleta extrema (EUV), las placas de sílice fundida de baja expansión térmica pueden reducir la deriva térmica y mejorar la precisión del proceso.

-Procesamiento de obleas: se utiliza para máscaras, sustratos portadores, etc., para garantizar una producción de alto rendimiento.

3. Aeroespacial y defensa nacional

-Sistema óptico satelital: aún puede mantener un rendimiento estable en ambientes de temperatura extrema en el espacio.

-Ventana y detector de infrarrojos: aplicable a guía de misiles, equipos de reconocimiento, etc.

4. Equipos de investigación científica y de laboratorio.

-Componentes ópticos en experimentos de física de altas energías.

-Lentes de referencia para instrumentos de medición de precisión.

Servicio personalizado

Podemos proporcionar soluciones integrales personalizadas de acuerdo con las necesidades del cliente, que incluyen, entre otras:

1. Personalización de tamaño y forma.

-Rango de diámetro: 5 mm a 600 mm (se admite tamaño no estándar)

-Espesor personalizado: 0,1 mm a 50 mm

-Corte irregular: círculo, cuadrado, polígono, etc.

2. Tratamiento superficial

-Pulido de alta precisión: Ra<1nm, adecuado para superficies ópticas ultra suaves

-Servicio de recubrimiento: película antirreflectante (AR), película reflectante (HR), película espectroscópica, etc.

3. Optimización especial del rendimiento.

-Sílice fundida de absorción ultra baja (adecuada para láser de alta potencia)

-Sílice fundida resistente a la radiación (adecuada para entornos espaciales o de industria nuclear)

-Hoja de sílice fundida modificada dopada (ajustar el índice de refracción o las características de expansión térmica)

¿Por qué elegir nuestra placa de sílice fundida de baja expansión térmica?

1. Solución del problema de la deformación térmica: en entornos con grandes fluctuaciones de temperatura, el vidrio tradicional es propenso a deformarse, mientras que las placas de sílice fundida de bajo CTE pueden mantener la estabilidad y mejorar la confiabilidad del sistema.

2. Mejorar la precisión óptica: es aplicable a imágenes de alta resolución y mediciones de precisión, y reduce el error causado por la deriva térmica.

3. Vida útil prolongada del equipo: resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión, adecuada para entornos industriales hostiles.

4. Personalización flexible: desde la selección de materiales hasta la tecnología de procesamiento, todo el proceso se personaliza para satisfacer las necesidades de diferentes industrias.

Ya sea para sistemas ópticos de alta precisión, fabricación de semiconductores o aplicaciones aeroespaciales, las placas de sílice fundida de bajo coeficiente de expansión térmica de 5 a 600 mm pueden proporcionar un rendimiento y una estabilidad excelentes. Brindamos servicios profesionales personalizados para garantizar que cada placa de sílice fundida se adapte perfectamente a sus necesidades.

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¿Por qué elegirnos?

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