Hochdurchlässige Quarzglasplatte für Entladungsröhre

Die hochdurchlässige Quarzglasplatte für Entladungsröhren ist ein industrielles technisches Glas mit besonderen Eigenschaften. Der Hauptbestandteil von Quarzglas ist Siliziumdioxid (SiO₂), das durch Schmelzen von hochreinem natürlichem Quarz (z. B. Kristall, Quarzsand) hergestellt wird. Diese Art von Glas ist bekannt für seinen extrem kleinen linearen Ausdehnungskoeffizienten (nur 1/10 bis 1/20 von gewöhnlichem Glas) und seine ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit, die auch unter extremen Temperaturbedingungen stabil bleibt. Der üblicherweise verwendete Temperaturbereich für Quarzglas liegt bei 1100 ℃ bis 1200 ℃, kurzfristig hält es sogar hohen Temperaturen bis zu 1400 ℃ stand.

Das strukturelle Merkmal von Quarzglas ist, dass es ein amorphes Material ist, das aus einer einzigen Komponente Siliziumdioxid besteht. Seine Struktur besteht aus dicht angeordneten tetraedrischen Einheiten aus Siliciumdioxid, die sich Sauerstoffatome teilen und so ein kontinuierliches dreidimensionales Netzwerk bilden. Diese amorphe Struktur verleiht Quarzglas viele einzigartige physikalische und chemische Eigenschaften, wie beispielsweise eine hervorragende spektrale Transparenz, einen extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und eine extrem niedrige Leitfähigkeit sowie eine hervorragende Strahlungsbeständigkeit und eine lange Lebensdauer unter extremen Bedingungen.

Im Bereich der Optik wird Quarzglas wegen seiner hervorragenden Eigenschaften wie hoher Transmission, geringer Dispersion und hohem Brechungsindex sehr geschätzt. Im sichtbaren Lichtbereich liegt die Transmission von Quarzglas bei über 90 % und nähert sich damit der theoretischen Grenze. Darüber hinaus weist Quarzglas auch eine hohe Transmission im ultravioletten (UV) und infraroten (IR) Bereich auf.

Hochdurchlässige Quarzglasplatten für Entladungsröhren finden aufgrund ihrer einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften ein breites Anwendungsspektrum in verschiedenen Bereichen wie Optik, Photovoltaik, Halbleiter, Luft- und Raumfahrt usw.