Quarzglasplatte mit geringer Blasendichte

Quarzglasplatten mit geringer Blasendichte, auch Quarzglas genannt, sind eine unterkühlte Flüssigkeit, die durch Schmelzen von natürlichem Quarz (wie Siliciumdioxid, Kristall usw.) bei hoher Temperatur hergestellt wird. Es wird hauptsächlich in zwei Typen unterteilt: transparentes Quarzglas und undurchsichtiges Quarzglas. Der SiO2-Gehalt von transparentem Quarzglas beträgt mehr als 99,95 % und wird normalerweise durch Hochtemperaturschmelzen von hochreinem Quarzpulver oder Siliziumtetrachlorid und anderen Rohstoffen hergestellt; Der SiO2-Gehalt von undurchsichtigem Quarzglas beträgt mehr als 99,80 % und wird durch Hochtemperaturschmelzen von gewöhnlichem Quarzpulver und Quarzsand als Rohstoffe hergestellt.

Zu den Eigenschaften von Quarzglasplatten mit niedriger Blasendichte gehören hohe Reinheit, wenige Blasen, keine Einschlüsse, hohe Durchlässigkeit, Korrosionsbeständigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit. Beispielsweise ist FLH331 ein Quarzmaterial aus synthetischem Sand, das die oben genannten Eigenschaften aufweist und für fortgeschrittene Halbleiterprozesse, Optik, chemische Verarbeitung, Ultraviolett- und Hochtemperaturfenster und andere Bereiche geeignet ist.

Quarzglasmaterial wurde in den letzten Jahrzehnten häufig verwendet und förderte die schnelle Entwicklung der Branche. Es wurden kontinuierlich viele neue Arten von Quarzglasmaterialien entwickelt, beispielsweise optisches Quarzglas, Quarzglas mit niedrigem Hydroxylgehalt und synthetisches optisches Quarzglas. Diese Materialien haben ein breites Anwendungsspektrum in Bereichen wie elektrischen Lichtquellen, Halbleitern und Optik.

Quarzglas mit geringer Blasendichte spielt aufgrund seiner einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften in vielen High-Tech-Bereichen eine wichtige Rolle.

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