Photolithographie verschmolzen Kieselglasröhrchen
Lithographie Fusions -Silica -Glasrohr ist ein wichtiges Material bei der Herstellung von Halbleiter, das weit verbreitet und technisch komplex ist.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
Verfügbarkeit: | |
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Photolithographie verschmolzen Kieselglasröhrchen
Lithographie Fusions -Silica -Glasrohr ist ein wichtiges Material bei der Herstellung von Halbleiter, das weit verbreitet und technisch komplex ist.
Materialmerkmale: Fusions -Silica -Glasrohr besteht hauptsächlich aus einer einzelnen Silizium -Dioxidkomponente, die die Eigenschaften einer hohen Reinheit, der chemischen Stabilität, der breiten spektralen Übertragung, der thermischen Schockresistenz, hoher Temperaturdeformationsresistenz, kosmischer Strahlenresistenz, Strahlungsbeständigkeit, elektrischer Isolierung usw. aufweist. Optische Kommunikation, Trägheitsnavigation usw.
Lithographie -Technologie: Die Lithographie -Technologie ist ein wesentlicher Prozess bei der Herstellung von Halbleiter, mit der winzige Schaltungsmuster auf Chips zur Herstellung integrierter Schaltkreise übertragen werden. Dieser Prozess erfordert sehr hohe Materialien, und fusionierter Silica -Glasrohr ist aufgrund seiner hervorragenden optischen Leistung, thermischen Stabilität und chemischen Haltbarkeit eine ideale Wahl in diesem Bereich.
Vorbereitungsprozess: Der Zubereitungsprozess von fusioniertem Siliciumdioxidglas umfasst elektrisches Schmelzen, Gasschmelzen und Plasmaschmelzen. Diese Prozesse erfordern eine strenge Kontrolle über die Gitterverunreinigungen, Einschlüsse, die Partikelgrößenverteilung und die Partikelform der Rohstoffe, um die Qualität des Endprodukts sicherzustellen.
3D -Drucktechnologie: In den letzten Jahren spielt die 3D -Drucktechnologie eine immer wichtigere Rolle bei der Verarbeitung von fusioniertem Kieselglas.
Anwendungsaussichten: Obwohl fusioniertes Kieselglas eine hervorragende Leistung hat, erschweren die hohe Härte und die Sprödigkeit es schwierig zu verarbeiten. Mit der Entwicklung von 3D -Druck und anderen fortschrittlichen Fertigungstechnologien verfügt Fused Silica Glass über eine umfassende Anwendungsaussicht auf die Entwicklung von Micro- und Nano -Geräten, effizienten Fertigung und fortschrittlichen Funktionsfeldern.
Photolithographie fusionierte Silica -Glasrohr spielt eine unverzichtbare Rolle bei der modernen Halbleiterherstellung. Der kontinuierliche Fortschritt seines Vorbereitungsprozesses und die Anwendung neuer Technologien bieten einen breiten Raum für seine zukünftige Entwicklung.
Warum uns wählen?
1. Wir sind erfahrener.
Wir haben mehr als 18 Jahre Produktionserfahrung von Quarzartikeln.
2. Wir sind effizienter.
Wir beantworten die Anfragen der Kunden innerhalb von 24 Stunden und haben eine hocheffiziente Produktion, Ingenieure und Verkaufsteam.
3. Ihre Qualität ist garantierter.
Wir steuern die Qualität von Quarzklumpen bis hin zu Quarzsand und dann von Quarzprodukten, wir haben eine bessere und strengere Qualitätskontrolle als andere Hersteller.
4. Wir können schwierigere Quarzprodukte produzieren.
Wir haben große Schleifplattformen und Präzisionsetchmaschinen, mit denen wir große Größen von Quarzplatten, Röhrchen und hohen Präzisionsquarzartikeln erstellen können.
Photolithographie verschmolzen Kieselglasröhrchen
Lithographie Fusions -Silica -Glasrohr ist ein wichtiges Material bei der Herstellung von Halbleiter, das weit verbreitet und technisch komplex ist.
Materialmerkmale: Fusions -Silica -Glasrohr besteht hauptsächlich aus einer einzelnen Silizium -Dioxidkomponente, die die Eigenschaften einer hohen Reinheit, der chemischen Stabilität, der breiten spektralen Übertragung, der thermischen Schockresistenz, hoher Temperaturdeformationsresistenz, kosmischer Strahlenresistenz, Strahlungsbeständigkeit, elektrischer Isolierung usw. aufweist. Optische Kommunikation, Trägheitsnavigation usw.
Lithographie -Technologie: Die Lithographie -Technologie ist ein wesentlicher Prozess bei der Herstellung von Halbleiter, mit der winzige Schaltungsmuster auf Chips zur Herstellung integrierter Schaltkreise übertragen werden. Dieser Prozess erfordert sehr hohe Materialien, und fusionierter Silica -Glasrohr ist aufgrund seiner hervorragenden optischen Leistung, thermischen Stabilität und chemischen Haltbarkeit eine ideale Wahl in diesem Bereich.
Vorbereitungsprozess: Der Zubereitungsprozess von fusioniertem Siliciumdioxidglas umfasst elektrisches Schmelzen, Gasschmelzen und Plasmaschmelzen. Diese Prozesse erfordern eine strenge Kontrolle über die Gitterverunreinigungen, Einschlüsse, die Partikelgrößenverteilung und die Partikelform der Rohstoffe, um die Qualität des Endprodukts sicherzustellen.
3D -Drucktechnologie: In den letzten Jahren spielt die 3D -Drucktechnologie eine immer wichtigere Rolle bei der Verarbeitung von fusioniertem Kieselglas.
Anwendungsaussichten: Obwohl fusioniertes Kieselglas eine hervorragende Leistung hat, erschweren die hohe Härte und die Sprödigkeit es schwierig zu verarbeiten. Mit der Entwicklung von 3D -Druck und anderen fortschrittlichen Fertigungstechnologien verfügt Fused Silica Glass über eine umfassende Anwendungsaussicht auf die Entwicklung von Micro- und Nano -Geräten, effizienten Fertigung und fortschrittlichen Funktionsfeldern.
Photolithographie fusionierte Silica -Glasrohr spielt eine unverzichtbare Rolle bei der modernen Halbleiterherstellung. Der kontinuierliche Fortschritt seines Vorbereitungsprozesses und die Anwendung neuer Technologien bieten einen breiten Raum für seine zukünftige Entwicklung.
Warum uns wählen?
1. Wir sind erfahrener.
Wir haben mehr als 18 Jahre Produktionserfahrung von Quarzartikeln.
2. Wir sind effizienter.
Wir beantworten die Anfragen der Kunden innerhalb von 24 Stunden und haben eine hocheffiziente Produktion, Ingenieure und Verkaufsteam.
3. Ihre Qualität ist garantierter.
Wir steuern die Qualität von Quarzklumpen bis hin zu Quarzsand und dann von Quarzprodukten, wir haben eine bessere und strengere Qualitätskontrolle als andere Hersteller.
4. Wir können schwierigere Quarzprodukte produzieren.
Wir haben große Schleifplattformen und Präzisionsetchmaschinen, mit denen wir große Größen von Quarzplatten, Röhrchen und hohen Präzisionsquarzartikeln erstellen können.