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Transparente perforierte UV -Fusions -Silica -Glasplatte
Transparente UV -Fusionsglasplatte mit Löchern ist eine Art fortschrittliches optisches Material, das hauptsächlich in Anlässen verwendet wird, in denen eine hohe Transparenz und eine präzise Blendenkontrolle erforderlich sind.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
Transparente perforierte UV -Fusions -Silica -Glasplatte
Transparente UV -Fusionsglasplatte mit Löchern ist eine Art fortschrittliches optisches Material, das hauptsächlich in Anlässen verwendet wird, in denen eine hohe Transparenz und eine präzise Blendenkontrolle erforderlich sind. Dieses Material besteht normalerweise aus hochreines Quarzglas, das gute optische Eigenschaften und chemische Stabilität aufweist.
Zu den Merkmalen von UV Fused Silica -Glasplatte gehören:
Hohe Reinheit: Quarzglas hat eine sehr hohe Reinheit, normalerweise mit einem SIO2 -Gehalt von mehr als 99,99%, was die Stabilität des Materials in hohen Temperatur- und chemischen Korrosionsumgebungen gewährleistet.
Durchlässigkeit: Diese Arten von Glastafeln weisen eine hohe Sendung auf, die sich in der Regel über 90%überschreitet, was sie ideal für Anwendungen macht, die eine hohe Transparenz erfordern.
Blendenkontrolle: Durch die Laserbohrtechnologie können die Blendengröße und Position von Quarzglasplatten genau kontrolliert werden, um die spezifischen Anwendungsanforderungen zu erfüllen.
Chemische Stabilität: Quarzglas hat eine ausgezeichnete chemische Stabilität und kann der Erosion der meisten chemischen Substanzen widerstehen.
Hochtemperaturwiderstand: Quarzglas hat einen hohen Wärmewiderstand mit einer Erweidungspunkttemperatur von ca. 1730 ℃. Es kann für eine lange Zeit bei 1100 ° C verwendet werden und die maximale Temperatur für den kurzfristigen Gebrauch kann 1450 ℃ erreichen.
Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: Quarzglas hat einen sehr niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten von etwa 5,5 × 10 ^ -7/℃, wodurch es weniger anfällig für das Knacken bei schnellen Heizungs- und Kühlprozessen ist.
Anpassungsdienste: Hersteller bieten normalerweise maßgeschneiderte Dienstleistungen an, die gemäß den spezifischen Kundenbedürfnissen in Größe, Form und Dicke angepasst werden können.
Dieses Material wird in der Herstellung von Halbleiter, optischen Instrumenten, Laborgeräten, Hochtemperaturbeobachtungsfenstern und anderen Feldern häufig eingesetzt. Aufgrund seiner hervorragenden Leistung spielt UV-Fuse-Silica-Glasplatte eine wichtige Rolle bei High-Tech- und Industrieanwendungen.
Transparente perforierte UV -Fusions -Silica -Glasplatte
Transparente UV -Fusionsglasplatte mit Löchern ist eine Art fortschrittliches optisches Material, das hauptsächlich in Anlässen verwendet wird, in denen eine hohe Transparenz und eine präzise Blendenkontrolle erforderlich sind. Dieses Material besteht normalerweise aus hochreines Quarzglas, das gute optische Eigenschaften und chemische Stabilität aufweist.
Zu den Merkmalen von UV Fused Silica -Glasplatte gehören:
Hohe Reinheit: Quarzglas hat eine sehr hohe Reinheit, normalerweise mit einem SIO2 -Gehalt von mehr als 99,99%, was die Stabilität des Materials in hohen Temperatur- und chemischen Korrosionsumgebungen gewährleistet.
Durchlässigkeit: Diese Arten von Glastafeln weisen eine hohe Sendung auf, die sich in der Regel über 90%überschreitet, was sie ideal für Anwendungen macht, die eine hohe Transparenz erfordern.
Blendenkontrolle: Durch die Laserbohrtechnologie können die Blendengröße und Position von Quarzglasplatten genau kontrolliert werden, um die spezifischen Anwendungsanforderungen zu erfüllen.
Chemische Stabilität: Quarzglas hat eine ausgezeichnete chemische Stabilität und kann der Erosion der meisten chemischen Substanzen widerstehen.
Hochtemperaturwiderstand: Quarzglas hat einen hohen Wärmewiderstand mit einer Erweidungspunkttemperatur von ca. 1730 ℃. Es kann für eine lange Zeit bei 1100 ° C verwendet werden und die maximale Temperatur für den kurzfristigen Gebrauch kann 1450 ℃ erreichen.
Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: Quarzglas hat einen sehr niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten von etwa 5,5 × 10 ^ -7/℃, wodurch es weniger anfällig für das Knacken bei schnellen Heizungs- und Kühlprozessen ist.
Anpassungsdienste: Hersteller bieten normalerweise maßgeschneiderte Dienstleistungen an, die gemäß den spezifischen Kundenbedürfnissen in Größe, Form und Dicke angepasst werden können.
Dieses Material wird in der Herstellung von Halbleiter, optischen Instrumenten, Laborgeräten, Hochtemperaturbeobachtungsfenstern und anderen Feldern häufig eingesetzt. Aufgrund seiner hervorragenden Leistung spielt UV-Fuse-Silica-Glasplatte eine wichtige Rolle bei High-Tech- und Industrieanwendungen.
