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화학/반도체/실험실용 고순도 사각 석영봉

  • 화학/반도체/실험실용 고순도 사각 석영봉

  • 고순도 사각 석영봉은 화학, 반도체, 실험실 등의 분야에서 널리 사용되는 정밀 소재입니다. 주성분은 고순도 이산화규소(SiO2)다.

  • 루베르 쿼츠

  • 99.99%

  • 내부에는 진공 PVC 백이 있고 기포 필름으로 포장되어 있으며 외부에는 나무 상자가 있습니다.

  • 고객의 요구 사항에 따라

유효성:

화학/반도체/실험실용 고순도 사각 석영봉


고순도 사각 석영봉은 화학, 반도체, 실험실 등의 분야에서 널리 사용되는 정밀 소재입니다. 주성분은 고순도 이산화규소(SiO2)다.


고순도: 고순도 석영 막대의 SiO2 순도는 일반적으로 99.99% 이상으로 매우 높으며 일부 고급 제품의 순도는 99.998%(4N8 수준)에 이릅니다. 이러한 높은 순도 덕분에 석영 막대는 반도체, 광전지, 광섬유 통신과 같은 고급 기술 분야에 적용됩니다.

고온 저항성: 석영 막대는 매우 높은 온도를 견딜 수 있으므로 반도체 제조 공정의 단결정 성장 및 웨이퍼 처리와 같은 고온 환경에서의 적용이 가능합니다.

화학적 안정성: 고순도 석영 막대는 화학적 안정성이 뛰어나 다양한 화학적 환경에서도 안정성을 유지할 수 있으며 다른 물질과의 반응에 쉽게 영향을 받지 않습니다.

전기 절연: 석영 막대는 전기 절연성이 매우 높으며 이는 전자 및 반도체 산업에 특히 중요합니다.


화학반도체실험실 고순도 사각 석영 막대


반도체 분야에서는 고순도 석영 로드가 주로 석영 도가니 제조 및 웨이퍼 가공용 부자재로 사용됩니다. 석영 도가니는 단결정 실리콘 성장 과정에서 없어서는 안될 용기이며, 에칭, 확산 및 기타 웨이퍼 가공 단계에서도 많은 석영 유리 제품을 사용해야 합니다.


석영 속성


고순도 석영 막대는 광섬유 통신, 정밀 광학, 항공우주 등 전략적 신흥 분야에서도 널리 사용됩니다.


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