투명한 광학 석영 유리 기판

투명한 광학 석영 유리 기판은 여러 필드에서 널리 사용되는 고급 광학 재료입니다. 이 재료는 고유 한 물리적 및 화학적 특성을 가지므로 다양한 과학, 산업 및 광학 응용 분야에 이상적인 선택입니다.

광학 석영 유리 기판의 주요 특성은 다음과 같습니다.

매우 낮은 열 팽창 계수 : 광학 석영 플레이트의 열 팽창 계수 (CTE)는 매우 낮으며 일반적으로 약 0.55 x 10 ^ -6/° C입니다. 이는 석영 플레이트가 온도 변동 동안 최소 크기 변화를 겪고 크래킹 또는 기상없이 빠른 온도 변동을 견딜 수 있음을 의미합니다.

고온 저항성 : 석영 플레이트는 우수한 내열성을 가지며 최대 1500 ° C의 온도를 견딜 수 있습니다.이 특성은 반도체 제조, 유리 폭발 및 화학 반응과 같은 고온 공정과 관련된 응용 분야에 매우 적합합니다.

광학 명확성 : 광학 석영 플레이트의 특성은 높은 광학 선명도와 매우 높은 투과율입니다. 광의 흡수와 산란이 최소화되어 렌즈, 프리즘 및 창문을 포함한 다양한 광 응용 분야에 적합합니다.

높은 화학적 순도 : 석영 플레이트는 높은 화학적 순도를 갖는 매우 순수한 이산화 실리콘 (SIO2)으로 구성됩니다.

이러한 특성으로 인해 광학 석영 유리 기판은 반도체 제조, 광학 기기, 화학 증기 증착 및 확산 공정과 같은 다양한 분야에서 중요한 역할을합니다. 이들은 렌즈, 필터, 프리즘 및 X- 선 튜브 및 진공 튜브의 광학 성분과 같은 광학 성분을 제조하여 전자기 방사선의 생성, 전송 및 검출을 촉진하는 데 사용됩니다.

투명한 광학 석영 유리 기판은 우수한 광학 특성과 화학적 안정성을 갖는 고급 재료이며, 넓은 응용 전망은 여러 첨단 기술 분야에서 중요한 역할을합니다.