Kwartsglasplaat voor laboratoriumapparatuur met hoge isolatie

Kwartsglasplaat met hoge isolatie voor laboratoriumapparatuur is een speciaal industrieel technisch glas dat voornamelijk wordt gebruikt voor laboratoriumapparatuur en speciale apparatuur voor extractie van zeer zuivere producten. Dit type kwartsglas is een amorf materiaal dat wordt gemaakt door het smelten van zeer zuiver natuurlijk kwarts (zoals kristal en kwartszand), dat voornamelijk bestaat uit siliciumdioxide (SiO2). Het staat bekend om zijn extreem kleine lineaire uitzettingscoëfficiënt (slechts 1/10 ~ 1/20 van gewoon glas), waardoor kwartsglas uitstekende thermische schokbestendigheid heeft en stabiel blijft onder extreme temperatuuromstandigheden. Het algemeen gebruikte temperatuurbereik is 1100 ~ 1200 ° C en is op korte termijn bestand tegen hoge temperaturen tot 1400 ° C.

Het structurele kenmerk van kwartsglas is de vorming van een continu driedimensionaal netwerk door het delen van zuurstofatomen door strak opgestelde tetraëdrische eenheden van siliciumdioxide. Deze amorfe structuur geeft kwartsglas vele unieke fysische en chemische eigenschappen, zoals uitstekende spectrale transparantie, extreem lage thermische uitzettingscoëfficiënt en geleidbaarheid, evenals uitstekende stralingsweerstand en een lange levensduur onder extreme omstandigheden. Deze eigenschappen samen vormen een belangrijk voordeel van kwartsglas als materiaal voor laboratoriumapparatuur met hoge isolatie.

Deze kenmerken van kwartsglas maken het tot een belangrijk basismateriaal voor de moderne informatie-industrie, optica, fotovoltaïsche energie, halfgeleiders en andere nationale strategische opkomende industrieën, evenals voor defensiegebieden zoals de lucht- en ruimtevaart. In laboratoriumapparatuur omvat de toepassing van kwartsglas laboratoriuminstrumenten, elektrische apparatuur, medische apparatuur en hoge temperatuur- en corrosiebestendige chemische instrumenten.