Quarzglasplatte mit hoher Isolierung Laborausrüstung

Quarzglasplatte mit hoher Isolierung Laborausrüstung ist ein spezielles industrielles technisches Glas, das hauptsächlich für Laborgeräte und spezielle Produkte für hochreines Produktextraktion verwendet wird. Diese Art von Quarzglas ist ein amorphes Material, das durch Schmelzen von natürlichen Quarz (z. B. Kristall, Quarzsand) hergestellt wird und hauptsächlich aus Siliziumdioxid (SiO2) besteht. Es ist bekannt für seinen extrem geringen linearen Expansionskoeffizienten (nur 1/10 ~ 1/20 gewöhnlicher Glas), was Quarzglas hervorragender thermischer Stoßdämpferwiderstand und die Fähigkeit, unter extremen Temperaturbedingungen stabil zu bleiben, stabil zu bleiben. Der häufig verwendete Temperaturbereich beträgt 1100 ~ 1200 ° C und kann kurzfristig hohe Temperaturen bis zu 1400 ° C standhalten.

Das strukturelle Merkmal von Quarzglas ist die Bildung eines kontinuierlichen dreidimensionalen Netzwerks durch die gemeinsame Nutzung von Sauerstoffatomen durch eng angeordnete tetraedrische Einheiten von Siliziumdioxid. Diese amorphe Struktur verleiht Quarzglas mit vielen einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften, wie z. Diese Eigenschaften sind zusammen einen wichtigen Vorteil von Quarzglas als Material für Laborgeräte mit hoher Isolierung.

Diese Eigenschaften von Quarzglas machen es zu einem wichtigen Grundmaterial für moderne Informationsindustrien, Optik, Photovoltaik, Halbleiter und andere nationale strategische aufstrebende Industrien sowie Verteidigungsfelder wie Luft- und Raumfahrt. In Laborausrüstung umfasst die Anwendung von Quarzglas Laborinstrumente, elektrische Geräte, medizinische Geräte sowie Hochtemperatur- und Korrosionsresistente chemische Instrumente.