Placa de vidro de sílica fundida com baixo coeficiente de expansão

A placa de vidro de sílica fundida com baixo coeficiente de expansão, também conhecida como vidro de quartzo ou vidro de sílica fundida, é um material óptico com coeficiente de expansão térmica extremamente baixo.

A placa de vidro de sílica fundida com baixo coeficiente de expansão é um tipo de material de dióxido de silício (SiO2) de alta pureza, feito de sílica fundida e resfriado sob condições específicas. É conhecido por seu coeficiente de expansão térmica extremamente baixo, excelentes propriedades ópticas e boa estabilidade química. Este tipo de painel de vidro é amplamente utilizado em áreas científicas e industriais que exigem controle preciso de tamanho.

Baixo coeficiente de expansão térmica: o coeficiente de expansão térmica da placa de vidro de sílica fundida com baixo coeficiente de expansão é muito baixo, próximo de zero, o que significa que seu tamanho muda muito pouco quando a temperatura muda. Esta característica o torna muito adequado para a fabricação de componentes ópticos e equipamentos que exigem alta precisão e estabilidade dimensional.

Alta pureza: Esta placa de vidro é feita de dióxido de silício de alta pureza com teor de impurezas extremamente baixo, possuindo assim excelentes propriedades ópticas e estabilidade química.

Bom desempenho óptico: a placa de vidro de sílica fundida com baixo coeficiente de expansão tem alta transmitância na faixa espectral do visível e do infravermelho próximo, o que é adequado para instrumentos e equipamentos ópticos.

Resistência a altas temperaturas: O vidro de quartzo pode suportar temperaturas de até 1000 ° C ou superiores sem amolecimento ou alterações estruturais, tornando-o adequado para ambientes de alta temperatura.

Estabilidade química: Esta placa de vidro possui alta resistência à maioria dos reagentes químicos e não é facilmente corroída por ácidos, bases ou solventes orgânicos.

Resistência mecânica: Embora o vidro de quartzo seja mais frágil do que o vidro comum, a placa de vidro de sílica fundida com baixo coeficiente de expansão ainda possui uma certa resistência mecânica.

Áreas de aplicação:

Instrumentos ópticos: utilizados na fabricação de lentes, prismas, janelas e outros componentes ópticos que requerem alta precisão e estabilidade dimensional.

Fabricação de semicondutores: Usado como transportador e material de transporte em ambientes de alta temperatura durante o processo de fabricação de semicondutores.

Equipamentos de laboratório: utilizados na fabricação de recipientes e instrumentos de laboratório resistentes a altas temperaturas e corrosão.

Medição de precisão: Em instrumentos que requerem medição e controle precisos, como réguas de medição, blocos padrão, etc.

Astronomia: Utilizada na fabricação de lentes e componentes estruturais para telescópios e outros equipamentos de observação astronômica.

A placa de vidro de sílica fundida com baixo coeficiente de expansão desempenha um papel importante em muitos campos de alta tecnologia e indústrias de fabricação de precisão devido às suas propriedades físicas e químicas únicas.

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