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0,1 mm ultra-dünn transparent geschmolzene Kieselsäureplatte
0,1 mm ultra-dünn transparent geschuldetes Silica-Platte ist ein fortschrittliches optisches Material mit extrem hoher Transparenz und hervorragenden physikalischen Eigenschaften, die für optische und elektronische Anwendungen präzise geeignet sind, bei denen die Materialeigenschaften äußerst anspruchsvoll sind.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
0,1 mm ultra-dünn transparent geschuldetes Silica-Platte ist ein fortschrittliches optisches Material mit extrem hoher Transparenz und hervorragenden physikalischen Eigenschaften, die für optische und elektronische Anwendungen präzise geeignet sind, bei denen die Materialeigenschaften äußerst anspruchsvoll sind.
Produktname: 0,1 mm ultradünne transparente geschmolzene Kieselsäureplatte
Material: hohe Reinheit verschmolzen Kieselsäure
Merkmale: Ultra-dünn, hohe Transparenz, Hochtemperaturwiderstand, niedriger Expansionskoeffizient
Größe: Kann nach Kundenbedürfnissen angepasst werden
Ultra-dünnes Design:
Die Dicke der Platte beträgt nur 0,1 mm, wodurch sie extrem leicht und für Anwendungen mit strengen Einschränkungen von Raum und Gewicht geeignet ist.
Das ultradünne Design hilft, die Absorption und Streuung von Licht zu verringern und die optische Effizienz zu verbessern.
Hohe Transparenz:
Fusions -Silica -Materialien bieten eine hervorragende optische Transparenz und eignen sich für optische Systeme, die eine hohe Lichtübertragung erfordern.
Es ist für den breiten Spektralbereich von Ultraviolett bis Infrarot geeignet.
Physikalische Eigenschaften:
Hochtemperaturwiderstand: In der Lage, die Stabilität bei Temperaturen über 1000 ° C ohne Verformung aufrechtzuerhalten.
Niedriger Expansionskoeffizient: Hat einen sehr niedrigen thermischen Expansionskoeffizienten, wodurch die dimensionale Stabilität unter Temperaturänderungen gewährleistet wird.
Chemische Stabilität:
Es hat eine hohe Resistenz gegen die meisten chemischen Reagenzien und ist für korrosive Umgebungen geeignet.
Bearbeitungsgenauigkeit:
Übernehmen Sie die Präzisionsbearbeitungs -Technologie, um die dimensionale Genauigkeit und Flachheit der Platte zu gewährleisten.
Eine feine Oberflächenbehandlung reduziert die optische Verzerrung und den Lichtverlust.
Anwendungsfeld:
Optischer Sensor: Als Substrat oder Fenstermaterial für empfindliche Komponenten.
Elektronische Geräte: Wird verwendet, um flexible Schaltplatten oder andere ultradünne elektronische Komponenten herzustellen.
Laborinstrumente: Als Komponenten in einem Probenrutschen oder optischen Pfad.
Lasertechnologie: Als Objektiv- oder Strahl -Splittermaterial für Lasergeräte.
Angeordneter Service:
Wir bieten benutzerdefinierte Größen-, Form- und Oberflächenbehandlungsdienste an, um die Anforderungen bestimmter Anwendungen zu erfüllen.
Unterstützen Sie die Produktion und Massenproduktion mit kleiner Batch, um den Bedürfnissen verschiedener Kunden gerecht zu werden.
Aufgrund seiner hervorragenden Technologie zur Leistung und Präzisionsverarbeitung verfügt 0,1 mm ultra-dünner transparentes, fusionierter Silica-Platte über eine breite Palette von Anwendungen in den Bereichen Optik, Elektronik, Halbleiter und wissenschaftliche Forschung. Es ist eine Schlüsselkomponente hochwertiger optischer Systeme und fortschrittlicher Technologieprodukte.
0,1 mm ultra-dünn transparent geschuldetes Silica-Platte ist ein fortschrittliches optisches Material mit extrem hoher Transparenz und hervorragenden physikalischen Eigenschaften, die für optische und elektronische Anwendungen präzise geeignet sind, bei denen die Materialeigenschaften äußerst anspruchsvoll sind.
Produktname: 0,1 mm ultradünne transparente geschmolzene Kieselsäureplatte
Material: hohe Reinheit verschmolzen Kieselsäure
Merkmale: Ultra-dünn, hohe Transparenz, Hochtemperaturwiderstand, niedriger Expansionskoeffizient
Größe: Kann nach Kundenbedürfnissen angepasst werden
Ultra-dünnes Design:
Die Dicke der Platte beträgt nur 0,1 mm, wodurch sie extrem leicht und für Anwendungen mit strengen Einschränkungen von Raum und Gewicht geeignet ist.
Das ultradünne Design hilft, die Absorption und Streuung von Licht zu verringern und die optische Effizienz zu verbessern.
Hohe Transparenz:
Fusions -Silica -Materialien bieten eine hervorragende optische Transparenz und eignen sich für optische Systeme, die eine hohe Lichtübertragung erfordern.
Es ist für den breiten Spektralbereich von Ultraviolett bis Infrarot geeignet.
Physikalische Eigenschaften:
Hochtemperaturwiderstand: In der Lage, die Stabilität bei Temperaturen über 1000 ° C ohne Verformung aufrechtzuerhalten.
Niedriger Expansionskoeffizient: Hat einen sehr niedrigen thermischen Expansionskoeffizienten, wodurch die dimensionale Stabilität unter Temperaturänderungen gewährleistet wird.
Chemische Stabilität:
Es hat eine hohe Resistenz gegen die meisten chemischen Reagenzien und ist für korrosive Umgebungen geeignet.
Bearbeitungsgenauigkeit:
Übernehmen Sie die Präzisionsbearbeitungs -Technologie, um die dimensionale Genauigkeit und Flachheit der Platte zu gewährleisten.
Eine feine Oberflächenbehandlung reduziert die optische Verzerrung und den Lichtverlust.
Anwendungsfeld:
Optischer Sensor: Als Substrat oder Fenstermaterial für empfindliche Komponenten.
Elektronische Geräte: Wird verwendet, um flexible Schaltplatten oder andere ultradünne elektronische Komponenten herzustellen.
Laborinstrumente: Als Komponenten in einem Probenrutschen oder optischen Pfad.
Lasertechnologie: Als Objektiv- oder Strahl -Splittermaterial für Lasergeräte.
Angeordneter Service:
Wir bieten benutzerdefinierte Größen-, Form- und Oberflächenbehandlungsdienste an, um die Anforderungen bestimmter Anwendungen zu erfüllen.
Unterstützen Sie die Produktion und Massenproduktion mit kleiner Batch, um den Bedürfnissen verschiedener Kunden gerecht zu werden.
Aufgrund seiner hervorragenden Technologie zur Leistung und Präzisionsverarbeitung verfügt 0,1 mm ultra-dünner transparentes, fusionierter Silica-Platte über eine breite Palette von Anwendungen in den Bereichen Optik, Elektronik, Halbleiter und wissenschaftliche Forschung. Es ist eine Schlüsselkomponente hochwertiger optischer Systeme und fortschrittlicher Technologieprodukte.
