0.1mmの超薄型透明な融合シリカプレートは、非常に高い透明性と優れた物理的特性を備えた高度な光学材料であり、材料特性が非常に厳しい精密光学および電子アプリケーションに適しています。

製品名：0.1mm超薄型透明な融合シリカプレート

材料：高純度融合シリカ

特徴：超薄、高透明性、高温抵抗、低膨張係数

サイズ：顧客のニーズに応じてカスタマイズできます

超薄いデザイン：

プレートの厚さはわずか0.1mmであるため、非常に軽量で、スペースと重量に厳密な制限がある用途に適しています。

超薄い設計は、光の吸収と散乱を減らし、光学効率を向上させるのに役立ちます。

高い透明性：

融合シリカ材料は優れた光学透明度を提供し、高光透過率を必要とする光学システムに適しています。

紫外線から赤外線まで、広いスペクトル範囲に適しています。

物理的特性：

高温抵抗：変形なしで1000°Cを超える温度で安定性を維持することができます。

膨張係数が低い：熱膨張係数が非常に低く、温度変化の下で寸法の安定性が確保されます。

化学的安定性：

ほとんどの化学物質に対する耐性が高く、腐食性環境に適しています。

加工精度：

精密機械加工技術を採用して、プレートの寸法精度と平坦性を確保します。

微細な表面処理は、光学的歪みと光損失を減らします。

アプリケーションフィールド：

光学センサー：機密成分用の基板または窓材料として。

電子機器：柔軟な回路プレートまたはその他の超薄型電子コンポーネントを作るために使用されます。

実験室機器：サンプルスライドまたは光学パスのコンポーネントとして。

レーザー技術：レーザー機器のレンズまたはビームスプリッター材料として。

カスタマイズされたサービス：

特定のアプリケーションの要件を満たすために、カスタムサイジング、形状、および表面処理サービスを提供します。

さまざまな顧客のニーズを満たすために、小さなバッチの生産と大量生産をサポートします。

その優れた性能と精密処理技術により、0.1mmの超薄型透明な融合融合シリカプレートは、光学系、電子機器、半導体、科学研究の分野で幅広いアプリケーションを備えています。これは、高品質の光学システムと高度なテクノロジー製品の重要なコンポーネントです。