92–99,5 % transparente UV-Quarzglasscheibe

92-99,5 % transparente UV-Quarzglasscheibe ist ein optisches Hochleistungsmaterial, das hauptsächlich aus hochreinem Siliziumdioxid (SiO2) besteht, dessen Reinheit normalerweise über 99,99 % liegt. Dieses Quarzglas weist eine extrem hohe Durchlässigkeit im ultravioletten bis nahinfraroten Wellenlängenbereich (185 nm bis 2500 nm) auf, insbesondere im tiefen Ultraviolettbereich, wodurch es häufig in Bereichen wie Ultraviolettlasern eingesetzt wird.

Im Vergleich zu gewöhnlichem optischem Glas weist Quarzglas eine bessere Gleichmäßigkeit und einen niedrigeren Wärmeausdehnungskoeffizienten auf, wodurch es sich besonders für Anwendungen im ultravioletten bis nahinfraroten Wellenlängenbereich eignet. Beispielsweise in den Bereichen Hochtemperaturlaser und Bildgebung erfreut sich dieses Material aufgrund seiner hervorragenden Leistung großer Beliebtheit. Darüber hinaus verfügt es über eine hervorragende chemische Stabilität und elektrische Isolationseigenschaften, sodass auch bei hohen Temperaturen eine gute Leistung erhalten bleibt.

Der Herstellungsprozess dieses Quarzglases umfasst die Verwendung von SiCl4 als Rohmaterial, Hochtemperaturhydrolyse oder Oxidation in einer Wasserstoff-Sauerstoff-Flamme zur Erzeugung von SiO2-Partikeln, Abscheidung und Schmelzen zur Bildung transparenter, hochreiner Quarzbarren. Anschließend wird der Quarzbarren entsprechend den Anforderungen in Quarzblöcke entsprechender Größe geschnitten und durch thermische Verarbeitung zu Quarzplatten geformt. Nach einer Reihe von Kaltbearbeitungstechniken wie Schneiden, Quadrieren, Anfasen, Schleifen und Polieren wird die Quarzplatte schließlich in die erforderlichen optischen Komponenten geformt.

92–99,5 % transparente UV-Quarzglasscheiben werden aufgrund ihrer hervorragenden optischen Eigenschaften, hohen Durchlässigkeit und hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften häufig in optischen Instrumenten, Lasertechnologie, medizinischen Geräten und anderen Bereichen eingesetzt.