T: +86-518-85528012
E: nick@luverrequartz.com
E: nick@luverrequartz.com
1. Stock Runlian Industrial Center Nr. 116 Qufeng Rd., Haizhou Wirtschaftliche und technologische Entwicklungszone Lianyungang City, Provinz Jiangsu, China 222062
 |
Hochreinheit Halbleiter Reaktionsgefäß Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiter-Reaktionsgefäß Quarzglasrohr ist ein spezielles industrielles technisches Glas, das hauptsächlich für Hochtemperaturreaktionsgefäße in der Halbleiterindustrie verwendet wird.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
Hochreinheit Halbleiter Reaktionsgefäß Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiter-Reaktionsgefäß Quarzglasrohr ist ein spezielles industrielles technisches Glas, das hauptsächlich für Hochtemperaturreaktionsgefäße in der Halbleiterindustrie verwendet wird.
Materialeigenschaften: Hochreinheit Halbleiter -Reaktionsgefäße Quarzglasrohr besteht hauptsächlich aus Siliziumdioxid, das spezielle physikalische Eigenschaften wie hohe Reinheit, Hochtemperaturresistenz, Säurefestigkeit, niedrige Expansion und hervorragende spektrale Transparenz aufweist. Diese Eigenschaften ermöglichen es Quarzglas, die strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie für den Inhalt von Alkali -Metallen und Schwermetallen in Trägermaterialien zu erfüllen.
Anwendungsbereiche: In der Halbleiterindustrie werden diese Quarzglasröhrchen in der Herstellung von Siliziumwafern und Wafer weit verbreitet. Beispielsweise werden im Silizium -Waferherstellungsprozess Quarzglasprodukte hauptsächlich zur Herstellung von Quarzkranz für Wafer -IC -Träger verwendet (Ziehen von Einzelkristallen). Bei der Herstellung und Verarbeitung von Wafer, wie Oxidation, Epitaxie, Photolithographie, Ätzung, Diffusion, CVD, Ionenimplantation und Schleifen, wird Quarzglas aufgrund seiner hervorragenden Eigenschaften wie hoher Reinheit, hoher Temperaturwiderstand, niedriger thermischer Expansion und Korrosionsbeständigkeit weit verbreitet.
Herstellungsprozess: Der Herstellungsprozess des Quarzglasrohrs mit hoher Purity-Halbleiter-Reaktionsbehälter umfasst das Mischen von Quarzsand, das Schäumungsmittel, weißer Carbonschwarz und andere Rohstoffe in einem bestimmten Verhältnis, Heizung und Bildung, wobei ein Gesamtverunreinigungsgehalt von nicht mehr als 30 g/g liegt. Diese Prozesse gewährleisten die hohe Reinheit und die hervorragende Leistung von Quarzglas.
Andere Anwendungen: Zusätzlich zu ihrer Verwendung in der Halbleiterindustrie werden hohe Purity-Halbleiter-Reaktionsgefäße wie Quarzglasröhrchen in Labor- und industriellen Hochtemperaturreaktionen wie Probenverdauung, Elementaranalyse, Semikonduktorherstellung usw. häufig verwendet.
Quarzglasröhrchen, die hochreinheitliche Halbleiter-Reaktionsgefäße sind, spielen eine wichtige Rolle in der Halbleiterindustrie. Ihre einzigartigen Materialeigenschaften und Herstellungsprozesse machen sie zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.
Hochreinheit Halbleiter Reaktionsgefäß Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiter-Reaktionsgefäß Quarzglasrohr ist ein spezielles industrielles technisches Glas, das hauptsächlich für Hochtemperaturreaktionsgefäße in der Halbleiterindustrie verwendet wird.
Materialmerkmale: Hochreinheit Halbleiter -Reaktionsgefäße Quarzglasrohr besteht hauptsächlich aus Siliziumdioxid, das spezielle physikalische Eigenschaften wie hohe Reinheit, Hochtemperaturresistenz, Säurebeständigkeit, niedrige Expansion und exzellente spektrale Transparenz aufweist. Diese Eigenschaften ermöglichen es Quarzglas, die strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie für den Inhalt von Alkali -Metallen und Schwermetallen in Trägermaterialien zu erfüllen.
Anwendungsbereiche: In der Halbleiterindustrie werden diese Quarzglasröhrchen in der Herstellung von Siliziumwafern und Wafer weit verbreitet. Beispielsweise werden im Silizium -Waferherstellungsprozess Quarzglasprodukte hauptsächlich zur Herstellung von Quarzkranz für Wafer -IC -Träger verwendet (Ziehen von Einzelkristallen); Bei der Herstellung und Verarbeitung von Wafer, wie Oxidation, Epitaxie, Photolithographie, Ätzung, Diffusion, CVD, Ionenimplantation und Schleifen, wird Quarzglas aufgrund seiner hervorragenden Eigenschaften wie hoher Reinheit, hoher Temperaturwiderstand, niedriger thermischer Expansion und Korrosionsbeständigkeit weit verbreitet.
Herstellungsprozess: Der Herstellungsprozess des Quarzglasrohrs mit hoher Purity-Halbleiter-Reaktionsbehälter umfasst das Mischen von Quarzsand, das Schäumungsmittel, weißer Carbonschwarz und andere Rohstoffe in einem bestimmten Verhältnis, Heizung und Bildung, wobei ein Gesamtverunreinigungsgehalt von nicht mehr als 30 g/g liegt. Diese Prozesse gewährleisten die hohe Reinheit und die hervorragende Leistung von Quarzglas.
Andere Anwendungen: Zusätzlich zu ihrer Verwendung in der Halbleiterindustrie werden hohe Purity-Halbleiter-Reaktionsgefäße wie Quarzglasröhrchen in Labor- und industriellen Hochtemperaturreaktionen wie Probenverdauung, Elementaranalyse, Semikonduktorherstellung usw. häufig verwendet.
Quarzglasröhrchen, die hochreinheitliche Halbleiter-Reaktionsgefäße sind, spielen eine wichtige Rolle in der Halbleiterindustrie. Ihre einzigartigen Materialeigenschaften und Herstellungsprozesse machen sie zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.
