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Hochreinheit Halbleiter Glühprozess Quarzglasrohr
Hochreinheit Semiconductor Annealing Process Quarzglasröhre ist eine spezielle Art von Quarzglas, die durch Präzisionsglanzprozess hergestellt und in der Halbleiterindustrie verwendet wird.
Luverre Quarz
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Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
Hochreinheit Halbleiter Glühprozess Quarzglasrohr
Hochreinheit Semiconductor Annealing Process Quarzglasröhre ist eine spezielle Art von Quarzglas, die durch Präzisionsglanzprozess hergestellt und in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Die Haupteigenschaften dieses Quarzglas sind hohe Reinheit, niedriger Hydroxylgehalt und hohe Temperaturbeständigkeit. Das Tempernprozess ist ein wichtiger Schritt im Herstellungsprozess von Quarzglas, der die innere Stress des Glass beseitigt und seine optische Gleichmäßigkeit durch Heiz- und Kühlprozesse verbessert.
Im Präzisionsglühprozess ist der Glühprozess von Quarzglas in mehrere Stufen unterteilt: Heizstufe, Einweichenstufe und Kühlphase. Jede Phase hat ihre spezifischen Prozessparameter und -ziele. Die Heizstufe besteht darin, das Quarzglas auf die Tempernstemperatur zu erwärmen, die Einweichstufe besteht darin, die innere Spannung des Glass zu beseitigen und seine Struktur gleichmäßiger zu gestalten, und die Kühlstufe besteht darin, das Quarzglas langsam abzukühlen, um eine neue Spannung zu vermeiden.
Durch diesen Präzisionsglanzprozess kann Quarzglas, das die Hochleistungsanforderungen erfüllt, erzeugt werden, das eine breite Palette von Anwendungen bei der Herstellung von Halbleitern aufweist, insbesondere bei der Oxidation, Diffusion und anderen Prozessen in der Halbleitergrade Siliziumwafer. Der hohe Purity, der niedrige thermische Expansionskoeffizient und die hervorragenden optischen Eigenschaften von Quarzglasröhrchen, die durch hochreines Halbleiter-Annealing-Prozess hergestellt wurden, machen sie zu einem unverzichtbaren Material im Semiconductor-Herstellungsprozess.
Hochreinheit Halbleiter Glühprozess Quarzglasrohr
Hochreinheit Semiconductor Annealing Process Quarzglasröhre ist eine spezielle Art von Quarzglas, die durch Präzisionsglanzprozess hergestellt und in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Die Haupteigenschaften dieses Quarzglas sind hohe Reinheit, niedriger Hydroxylgehalt und hohe Temperaturbeständigkeit. Das Tempernprozess ist ein wichtiger Schritt im Herstellungsprozess von Quarzglas, der die innere Stress des Glass beseitigt und seine optische Gleichmäßigkeit durch Heiz- und Kühlprozesse verbessert.
Im Präzisionsglühprozess ist der Glühprozess von Quarzglas in mehrere Stufen unterteilt: Heizstufe, Einweichenstufe und Kühlphase. Jede Phase hat ihre spezifischen Prozessparameter und -ziele. Die Heizstufe besteht darin, das Quarzglas auf die Tempernstemperatur zu erwärmen, die Einweichstufe besteht darin, die innere Spannung des Glass zu beseitigen und seine Struktur gleichmäßiger zu gestalten, und die Kühlstufe besteht darin, das Quarzglas langsam abzukühlen, um eine neue Spannung zu vermeiden.
Durch diesen Präzisionsglanzprozess kann Quarzglas, das die Hochleistungsanforderungen erfüllt, erzeugt werden, das eine breite Palette von Anwendungen bei der Herstellung von Halbleitern aufweist, insbesondere bei der Oxidation, Diffusion und anderen Prozessen in der Halbleitergrade Siliziumwafer. Der hohe Purity, der niedrige thermische Expansionskoeffizient und die hervorragenden optischen Eigenschaften von Quarzglasröhrchen, die durch hochreines Halbleiter-Annealing-Prozess hergestellt wurden, machen sie zu einem unverzichtbaren Material im Semiconductor-Herstellungsprozess.
