Hohe Sendanzfaser -Stecker Quarzglasplatte

Hohe Sendanz -Glasfaser -Quarzglasplatte ist ein spezielles optisches Material, das hauptsächlich in Feldern wie Glasfaserkommunikation und Laseranwendungen verwendet wird. Die Hauptkomponente von Quarzglas ist Siliziumdioxid, das aufgrund seiner hohen Reinheit, hohen Transparenz, hohen Temperaturwiderstand und chemischen Stabilität eine wichtige Rolle im Halbleiterherstellungsprozess spielt. Im Bereich der optischen Faserkommunikation ist Quarzfaser ein wichtiges Instrument zur Erreichung von Informationsübertragung mit hoher Geschwindigkeit und Hochkapazität.

Im Herstellungsprozess von Quarzfasern kann ein Kilogramm hochreines Quarzglas verwendet werden, um Zehntausende von Kilometern Faser zu zeichnen, was die Kosten erheblich spart und eine erhebliche strategische Bedeutung hat. Die Transparenz, die mechanische Festigkeit und die chemische Stabilität von Quarzglas machen es zu einer absoluten vorteilhaften Wahl für Lichtübertragungsmedien. Darüber hinaus kann Quarz mit verschiedenen Elementen dotiert werden, um optische Fasern mit unterschiedlichen optischen Eigenschaften zu bilden, was eine gute Grundlage für seine anschließende Entwicklung darstellt.

In the semiconductor manufacturing process, quartz glass products are mainly used in two stages: monocrystalline silicon manufacturing and wafer manufacturing, such as cleaning, oxidation, photolithography, etching, diffusion, etc. Quartz glass device manufacturers turn these quartz glass materials into various quartz glass products, such as furnace tubes, boat frames, slots, rings, flanges, bell covers, etc. These products have high Transparenz, Hochtemperaturwiderstand und hohe Festigkeit, die den Bedürfnissen der Hersteller von Halbleitergeräten für verschiedene Größen und Formen erfüllen können.

Das im Semiconductor -Feld verwendete Quarzglas hat aufgrund seiner unterschiedlichen Anwendungsszenarien leicht unterschiedliche charakteristische Anforderungen. Quarzglasprodukte, die in Hochtemperaturbereichen verwendet werden, erfordern einen niedrigen Hydroxylgehalt und werden normalerweise mit elektrischen Schmelzmethoden erstellt. In der Region mit niedriger Temperatur wird mehr Berücksichtigung von Gas geschmolzenem Quarzglas gegeben, das hohe optische Eigenschaften und chemische Stabilität aufweist. Bei der Erzeugung von Mask-Substraten wird Quarzglas, die durch synthetische Methoden mit geringem Verunreinigungsgehalt und hoher Sendung hergestellt werden, häufiger verwendet, da synthetisches Quarzglas eine höhere Reinheit und eine stärkere Härte aufweist, was es für die Herstellung von hoher Präzision und hoher Submitteanz-Substratten geeignet ist.

Quarzglasplatten mit hohen Sendungsfaseranschlüssen wurden aufgrund ihrer hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften in verschiedenen Bereichen wie Kommunikation, Halbleiterherstellung und Laseranwendungen häufig verwendet.