Laserverschmutzte Kieselglasplatte

Laser-Fusions-Silica-Glasplatte ist ein fortschrittliches optisches Material, das in verschiedenen Arten von festen Lasern, insbesondere in Hochleistungs- und hochenergetischen Lasern, häufig verwendet wird. Dieses Material ist ein Festkörperlasermaterial, das auf Glas basiert und aus einem Matrixglas und aktivierten Ionen besteht. Die physikalischen und chemischen Eigenschaften von Laserquarzglas werden hauptsächlich durch das Grundglas bestimmt, während die spektralen Eigenschaften hauptsächlich von den Wirten bestimmt werden.

Laserverschmutzte Silica -Glasplatte hat eine starke Wärmebeständigkeit, einen niedrigen thermischen Expansionskoeffizienten und eine gute Isolationsleistung, daher wird sie in Luft- und Raumfahrt, mikrooptischen Elementen, Militär- und anderen Feldern häufig verwendet. Aufgrund der 'kalten Verarbeitung ' Eigenschaften des Femtosekunden -Lasers zeigt es eine einzigartige Vorteile bei der Verarbeitung von Micro- und Nanoverarbeitung von verschmolzenem Kieselglas. Durch die Verwendung spezifischer Femtosekunden-Laserparameter kann eine hochpräzisen Mikro-Nano-Bearbeitung an geschmolzenem Kieselglas durchgeführt werden, um die Verarbeitung mit hohem Seitenverhältnis zu erzielen.

Die Verarbeitungstechnologie von Laser-Fusions-Silica-Glasplatten entwickelt sich ebenfalls ständig, wie z. B. eine ultradünne Quarzglasplatte mit Laserbohrungen. Während diese Art von Produkten eine hohe optische Leistung aufrechterhalten, verfügt diese Art von Produkt auch über eine genaue Laserbohrtechnologie, die für Anwendungen geeignet ist, die eine hohe Vorbereitungsverarbeitung erfordern.

Laser Fused Silica-Glasplatte hat aufgrund seiner hervorragenden optischen Eigenschaften, Wärmewiderstand und Verarbeitungsgenauigkeit eine breite Anwendungsaussicht auf dem High-Tech-Feld.

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