Tubo per forno al quarzo di grande diametro senza ozono

Nei processi di diffusione, ossidazione e CVD ad alta temperatura, i normali tubi di quarzo tendono a generare ozono sotto la radiazione ultravioletta, che non solo corrode le apparecchiature e inquina la camera, ma influisce anche sulla ripetibilità del processo. Nostro 'Tubo per forno al quarzo di grande diametro senza ozono ' utilizza materie prime di quarzo sintetico e speciali processi di deidrossilazione per sopprimere completamente la generazione di ozono. Supporta inoltre la personalizzazione non standard di diametri di grandi dimensioni da 200 mm a 450 mm e lunghezze di 500-2000 mm, fornendo materiali di consumo puliti, stabili e di lunga durata per processi di tubi di forni per semiconduttori, fotovoltaici e ricerca scientifica.

Domande frequenti (FAQ)

Q1: Cos'è il 'tubo per forno al quarzo senza ozono'? Qual è la differenza tra questo e un normale tubo al quarzo?

R: Sotto la luce ultravioletta o la radiazione ad alta temperatura, i gruppi idrossilici all'interno della parete dei normali tubi di quarzo reagiscono con il vapore acqueo per decomporsi e produrre ozono. I tubi al quarzo privi di ozono sono sottoposti a trattamento di deidrossilazione ad alta temperatura (contenuto di ossidrile ≤ 5 ppm) e sono sintetizzati con poche impurità metalliche per sopprimere la generazione di ozono dalla fonte, evitando la corrosione della camera e l'inquinamento del processo.

Q2: Quanto è possibile ottenere un diametro grande? Qual è lo spessore della parete?

R: L'intervallo del diametro esterno è 200 mm-450 mm, lo spessore della parete è 3 mm-8 mm e la lunghezza è 500 mm-2000 mm. Per ordini è possibile valutare dimensioni maggiori (come diametro esterno 500 mm). La flangia del tubo, i gradini, la rastremazione, le aperture, ecc. possono essere personalizzate secondo i disegni.

Q3: Quali sono i vantaggi delle caratteristiche di assenza di ozono per i processi reali?

A: ① Corrosione senza ozono → Durata operativa prolungata dei tubi del forno, delle flange in acciaio inossidabile e degli anelli di tenuta; ② Ossidazione senza ozono: sulla superficie del wafer/wafer di silicio non si formerà alcuno strato sottile di ossido inaspettato; ③ Ridurre la frequenza di manutenzione → Estendere il ciclo di pulizia della cavità da settimanale a mensile o addirittura trimestrale.

Q4: Qual è la prestazione di resistenza alla temperatura? Può essere utilizzato per processi superiori a 1200 ℃?

A: Temperatura di lavoro a lungo termine di 1100 ℃, resistenza alla temperatura a breve termine di 1200 ℃. Il punto di rammollimento è di circa 1270 ℃. Se sono necessarie temperature più elevate (>1200 ℃), si consiglia di utilizzare tubi per forni in quarzo opaco o ceramica, che possiamo fornire anche come accessori.

Quali problemi fondamentali può risolvere il prodotto per te?

-Problema di corrosione dell'ozono: la parete del tubo, il filo riscaldante e la superficie di tenuta della flangia vengono accelerati dall'ossidazione dell'ozono → struttura priva di ozono, la durata dell'apparecchiatura aumenta di oltre il 30%.

-Problema di inquinamento del processo: l'ozono e il vapore acqueo residuo generano acido nitrico/acido nitroso, contaminando i wafer → mantenendo la pulizia di Classe 1 nella camera di processo.

-Difficoltà nell'adattamento delle dimensioni: i tubi per forni di fascia alta hanno prezzi elevati e tempi di consegna lunghi, mentre i tubi per forni ordinari hanno poche specifiche di grande diametro → copertura a grandezza naturale di 200-450 mm, con un ordine minimo di 1 pezzo.

-Problema di deformazione ad alta temperatura: i tubi di quarzo di grande diametro tendono a collassare o diventare ellittici alle alte temperature → Ricottura speciale e design del supporto, rotondità ≤ 0,5 mm.

Gamma di specifiche personalizzabili

Diametro esterno: 200 mm/220 mm/250 mm/280 mm/300 mm/350 mm/400 mm/450 mm (altre dimensioni possono essere negoziate)

Spessore della parete: 3 mm/4 mm/5 mm/6 mm/8 mm (± 0,3 mm)

Lunghezza: 500mm -2000mm (± 2mm)

struttura della bocca del tubo: bocca piatta, bocca flangiata, bocca a gradini, bocca affusolata, chiusura inferiore a estremità singola, apertura su due lati

Contenuto di ossidrile: ≤ 5 ppm (grado privo di ozono)/≤ 1 ppm (grado di idrossile ultra-basso, utilizzato per processi ultravioletti profondi)

Grado di aspetto: bolle: ≤ 0,5 mm/10 × 10 cm; strisce: nessuna striscia visibile ad occhio nudo; Superficie: levigatura fine/lucidatura/lavaggio acido

Vantaggio del processo

-Deidrossilazione ad alta temperatura+sintesi del substrato di quarzo: blocca completamente il percorso di generazione dell'ozono → non è necessario installare ulteriori dispositivi di eliminazione dell'ozono, risparmiando sui costi di ristrutturazione delle apparecchiature.

-Formazione di precisione di grande diametro: utilizzando formatura rotativa+molatura dei bordi CNC, tolleranza di rotondità ≤ 0,5 mm, rettilineità ≤ 1 mm/m → spazio uniforme con filo riscaldante, migliore consistenza del campo di temperatura.

-Trattamento della superficie interna resistente alla corrosione: decapaggio o lucidatura a specchio opzionale, rugosità Ra ≤ 0,4 μ m → riduce l'adesione delle particelle, prolunga il ciclo di pulizia.

-Miglioramento della stabilità termica: ogni tubo del forno è sottoposto a più fasi di ricottura per eliminare lo stress interno e la velocità di riscaldamento può raggiungere 15 ℃/min senza esplosione.

Scenari applicativi tipici

-Forno a diffusione/forno di ossidazione per semiconduttori (diametro esterno 250-350 mm): privo di ozono per prevenire l'ossidazione inaspettata sulla superficie del wafer, migliorando la consistenza della qualità dello strato di ossido di gate.

-Tubo del forno PECVD fotovoltaico (diametro esterno 300-400 mm): adattamento di grande diametro per il caricamento di wafer di silicio su larga scala, privo di ozono per ridurre la corrosione della barca al quarzo.

-Sistema CVD di ricerca (diametro esterno 200-250 mm): adatto per esperimenti di deposizione di materiale di elevata purezza e in piccoli lotti, senza interferenze dell'ozono sul percorso di reazione.

-Forno di ricottura ad alta temperatura MEMS (diametro esterno 150-200 mm) , possiamo anche farlo): versione a bassissimo contenuto di idrossile combinata con la tecnologia ultravioletta profonda.

Caso di domanda del cliente (anonimo)

Caso 1: forno a diffusione wafer fab da 8 pollici

-Requisito: diametro esterno 300 mm, lunghezza 1600 mm, spessore parete 5 mm, per il processo di ossidazione del cancello. Il tubo del forno originale di fascia alta costa circa 18.000 yuan al pezzo e ha un tempo di consegna di 8 settimane. Una volta ho provato un normale tubo al quarzo, ma dopo 2 settimane sono comparsi depositi bianchi (nitrato) sulla parete interna del tubo e le particelle sulla superficie del wafer hanno superato lo standard.

-La nostra soluzione: fornire tubi per forni al quarzo sintetico privi di ozono con un contenuto di idrossile di 3,2 ppm e pareti interne lucidate a specchio.

-Risultato: non sono stati rilevati prodotti di corrosione dell'ozono durante il funzionamento continuo per 6 settimane e i dati di monitoraggio delle particelle erano coerenti con quelli dei tubi del forno di fascia alta. Il costo di una singola unità è stato ridotto del 42% e i tempi di consegna sono stati ridotti a 12 giorni.

Caso 2: Produttore OEM europeo di apparecchiature fotovoltaiche

-Requisito: diametro esterno 380 mm, lunghezza 1850 mm, spessore parete 6 mm, per PECVD tubolare. Requisito: nessuna deformazione ad alta temperatura con diametro grande e pienamente compatibile con il sistema di tenuta della flangia esistente del cliente.

-Difficoltà: i normali tubi al quarzo di grande diametro hanno un'ellitticità superiore a 2 mm a 1100 ℃, con conseguente perdita di tenuta.

-Il nostro piano è quello di adottare un design con formatura rotativa+spessore della parete della nervatura rinforzata (ispessita localmente a 8 mm) e, dopo la ricottura, l'ellitticità ad alta temperatura misurata è ≤ 0,8 mm.

-Risultato: dopo aver superato il test del ciclo termico del cliente (temperatura ambiente → 1100 ℃ → temperatura ambiente, ripetuto 20 volte), non si sono verificate perdite o crepe.

Caso 3: Sistema CVD presso il Nanocentro Universitario

-Requisito: diametro esterno 200 mm, lunghezza 800 mm, un'estremità sigillata, utilizzata per la crescita del grafene. Richiedono una pulizia ultraelevata senza alcun inquinamento da ozono o metalli.

-Difficoltà: diversi fornitori non sono in grado di fornire la certificazione di assenza di ozono e vi è un alto rischio di stress residuo sulla guarnizione inferiore.

-La nostra soluzione: quarzo idrossilico a bassissimo contenuto (idrossile ≤ 1 ppm)+design di tenuta a forma di arco, completamente ricotto dopo la formatura a caldo. Prima della spedizione, eseguire un test con la striscia reattiva all'ozono (irradiazione UV a 254 nm per 30 minuti, senza scolorimento della striscia reattiva).

-Risultato: il grafene a strato singolo è stato coltivato con successo con un rapporto di picco Raman 2D/G>2.

Che tu abbia bisogno di adattare le dimensioni standard di vecchie apparecchiature o di sviluppare diametri non convenzionali per nuovi processi, è possibile personalizzarne uno, fornendo conferma del disegno 3D, rapporti sui materiali e rapporti sui test sull'ozono. Contatta immediatamente i nostri ingegneri di processo per ottenere soluzioni esclusive e preventivi applicabili ai parametri del tuo forno.

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Luverre Quartz può produrre tubi al quarzo personalizzati in varie forme, come spirale, quadrato, tondo, con lavorazioni che includono taglio, piegatura, saldatura, ecc., e disponibili in diversi colori, come tubi al quarzo trasparenti, tubi al quarzo opachi, tubi al quarzo bianco latte, tubi al quarzo rosso e così via.