低水酸基石英ロッド

低水酸基石英ロッドは、高出力レーザー、光通信、ファイバー製造などの分野で広く使用されている高純度石英材料です。この石英ロッドの特徴は、水酸基含有量が低く、サイズが細かく制御され、超高純度の石英素材で作られていることです。低水酸基石英ロッドの作製方法は、石英粉末をスラリー状に調製し、ステンレス金型に加圧注入、絶縁、脱型してビレットとし、自然乾燥、真空焼結炉でガラス化処理という複数の工程を経ます。

低ヒドロキシル石英ロッドのヒドロキシル含有量は、通常、非常に低いです。たとえば、一部の製品では、ヒドロキシル含有量を 1ppm から 800 ～ 1000ppm の間で制御できます。このようにヒドロキシル含有量が低いため、石英ロッドは優れた光学特性と化学的安定性を備えます。さらに、この石英ロッドの幾何学的寸法も非常に細かく、直径は 0.5 mm ～ 8.0 mm、長さは 10 mm ～ 1000 mm の範囲であり、特定の用途のニーズに応じてカスタマイズできます。

低水酸基石英ロッドは、高純度で水酸基含有量が低いため、光学機器、半導体産業、レーザー技術などの分野で幅広い用途に使用されています。これらの応用分野では材料の純度や性能が非常に高く要求されており、低水酸基石英ロッドはこれらの厳しい要求に応えることができ、関連産業において重要な役割を果たしています。

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