低熱膨張融合シリカチューブ

低熱膨張融合シリカチューブは、特別なタイプの石英ガラスチューブです。熱膨張係数が非常に低いため、温度が変化するとサイズはほとんど変わりません。正確な温度制御を必要とする科学的および産業分野で広く使用されています。

低熱膨張融合シリカチューブは、融解と描画の特別なプロセスによって高純度の二酸化シリコン（SIO2）で作られた一種の高性能材料です。その熱膨張係数は非常に低く、ゼロに近いため、温度変化の下で非常に高い寸法の安定性を維持でき、実験室や産業機器における理想的な高温および熱耐性耐性物質になります。

熱膨張係数：低熱膨張融合シリカチューブの熱膨張膨張係数は非常に低く、通常は約10〜7 k ^ -1です。つまり、温度が変化するときにその長さと直径がほとんど変化しないことを意味し、正確な温度制御を必要とする場合に適しています。

材料の純度： この石英チューブは通常、高純度の二酸化シリコンで作られており、純度は99.99％を超えており、優れた物理的および化学的特性を確保しています。

高温抵抗： 高温環境での実験的および産業用途に適した1000°C以上の温度に耐えることができます。

寸法の安定性： 熱膨張特性が低いため、この石英チューブは温度変化の下で寸法の安定性を維持できます。これは、高精度の測定と制御を必要とする実験にとって特に重要です。

化学物質の安定性： ほとんどの化学物質試薬に対する良好な腐食耐性があり、化学反応を起こしやすくなく、加熱および反応する化学物質に適しています。

光学的透明度： 特に紫外線および可視光範囲では、光学的透明度が良好であり、光学機器や光源のアプリケーションに適しています。

アプリケーションエリア： 半導体製造、実験室機器、高温炉、照明機器、分析機器などで広く使用されています。

製造プロセス： 特別な融解と描画プロセスを通じて行われ、パイプの均一性と機械的強度を確保します。

安全性： 優れた耐熱性と化学的安定性により、低熱膨張融合シリカチューブはより安全で信頼性が高いため、使用できます。

メンテナンス： パフォーマンスを維持するには、迅速な温度変化を避け、使用後に適切な洗浄と保管を実行する必要があります。

低熱膨張融合シリカチューブは、特に高温抵抗、低熱膨張特性、高化学物質の安定性が高いため、科学的研究と工業生産において重要な役割を果たします。

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