반도체 제조 재료를위한 2-100mm 석영 막대

반도체 제조 재료를 위해 특수화 된 2-100mm 쿼츠로드는 고급 쿼츠 재료로 만들어진 핵심 성분으로 반도체 제조 분야에서 중요한 역할을합니다.

고순도 석영 재료 : 석영 막대는 주로 고순도 석영 유리로 만들어졌으며, 이는 융합 실리카와 수화 석영의 두 가지 유형으로 나뉩니다. 융합 실리카는 초 미세 석영 막대를 생산하는 데 적합한 반면, 수화 된 석영은 더 두꺼운 석영 막대를 생산하는 데 더 적합합니다.

고온 저항 : 석영 막대는 최대 1450 ° C의 온도에서 단기간에, 최대 1150 ° C의 온도에서 장기간 사용될 수 있습니다. 연화점 온도는 약 1730 ° C입니다.

부식성 : 하이드로 플루오르 산을 제외하고, 고급 쿼츠는 다른 산성 물질과 화학적으로 반응하지 않으며, 산성 저항성은 세라믹 및 스테인리스 스틸의 산성보다 훨씬 뛰어납니다.

열 안정성 : 석영 막대는 매우 작은 열 팽창 계수를 가지며 급격한 온도 변화를 견딜 수 있습니다.

투명성 성능 : 고순도 석영은 자외선에서 적외선에 이르기까지 전체 스펙트럼 범위에서 투명성이 우수하며 가시 광선 투과율은 93%이상입니다.

전기 절연 성능 : 고순도 석영은 매우 높은 저항 값을 가지며 고온에서도 전기 절연 성능이 우수합니다.

응용 프로그램 영역

반도체 제조 : 석영 막대는 고온에서 화학 반응을 견딜 수있는 반도체 제조의 반응 챔버를위한지지 구조로 사용됩니다.

광섬유 통신 : 쿼츠로드를 그리는 것으로 제작 된 석영 광 섬유는 정보 전송을위한 핵심 구성 요소입니다.

태양 전지판 생산 : 석영 막대는 고온 용광로 또는 기타 고온 장비 구성 요소를 제조하는 데 사용됩니다.

전자 산업 : 우수한 전기 절연 및 안정성으로 인해 석영 막대는 전자 부품 용베이스 및 절연체와 같은 구성 요소를 만드는 데 사용됩니다.

과학적 연구 : 석영 막대는 고온 또는 부식성 실험에서 시험관, 비이커 및 기타 실험 용기를 대체 할 수 있습니다.

반도체 제조의 응용

반도체 제조 공정에서 석영 제품 (석영로드 포함)은 캐리어 장치 및 캐비티 소비품 으로서에칭, 확산, 산화 및 기타 공정에 널리 사용됩니다. 이 석영 제품은 정확한 연삭 및 연마가 필요하며, 내부 품질은 형광 검출을 통해 보장됩니다. 반도체 용 석영 제품은 고온 장치 및 저온 장치로 나뉘며,이 장치는 각각 다른 공정 단계에 적용됩니다.

2-100mm 쿼츠로드는 고유 한 물리적 및 화학적 특성으로 인해 반도체 제조 재료에 중요한 역할을합니다.

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