화학 반응 용기 석영 막대

화학 반응 용기의 쿼츠로드는 이산화물 (SIO)으로 만들어진 재료로, 물리적 및 화학적 특성이 우수합니다. 주요 성분은 안정된 화학적 특성, 고온 저항, 부식성 및 우수한 광학 및 전기 절연 특성을 갖는 이산화 실리콘입니다. 석영 막대의 용융점은 1700 ℃ 이상이며, 이는 고온 환경에서 안정적인 물리적 및 화학적 특성을 유지할 수 있습니다.

애플리케이션

1. 화학 반응 용기 : 석영 막대는지지 구조, 교반로드 등과 같은 화학 반응 용기의 성분을 만드는 데 사용될 수 있습니다. 고온 저항 및 부식 저항은 강산, 강한 알칼리 또는 유기 용매 환경에서 안정적으로 작동 할 수 있습니다.

2. 실험실 도구 : 쿼츠로드는 실험실에서 일반적으로 교반로드, 프레임을지지하는 샘플 전송 도구로 사용됩니다. 특히 고온 또는 부식성 환경에서의 실험에 적합합니다.

3. 광학 분야에서 : 석영로드는 투명성이 높고 광학적 특성이 뛰어나며 광학 기기, 렌즈, 프리즘 등을 제조하는 데 사용할 수 있습니다.

4. 반도체 산업 : 석영 막대는 고온 화학 반응의 가혹한 시험을 견딜 수있는 반도체 제조의 반응 챔버를위한지지 구조로 사용될 수있다.

5. 기타 응용 분야 : 석영 막대는 석영 유리 제품, 수중 감지기, 석영 시계 등과 같은 고정밀 기기를 만드는 데 사용될 수도 있습니다.

맞춤형 설명

석영 막대는 크기, 모양, 순도 및 기타 측면을 포함한 특정 고객 요구에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다. 예를 들어:

-크기 커스터마이징 : 석영 막대의 길이, 직경 및 기타 치수는 반응 용기의 특정 요구 사항에 따라 조정할 수 있습니다.

-형태 사용자 정의 : 일반적인 원통형 모양 외에도 사각형 및 사각형과 같은 특수 모양은 다양한 응용 시나리오의 요구를 충족시키기 위해 사용자 정의 할 수 있습니다.

-PURITION 요구 사항 : 사용 환경의 엄격함에 따라 쿼츠로드의 순도는 일반적인 고순도 (예 : 99.95% SIO ₂)에서 매우 높은 순도에 이르기까지 사용자 정의 할 수 있습니다.

-수면 처리 : 광학 성능 또는 부식 저항을 향상시키기 위해 필요에 따라 석영 막대를 연마, 코팅 및 기타 표면 처리 할 수 ​​있습니다.

쿼츠로드를 사용자 정의 할 때 특정 요구에 따라 생성하기 위해 크기, 모양, 사용 환경 등을 포함한 세부 사양 요구 사항이 필요합니다.

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