고순도 광학 1200도 용융 실리카 막대

고순도 광학 1200도 용융 실리카 로드는 고순도 이산화규소(SiO2)로 만들어진 특수 석영 소재로 광학적, 열적, 화학적 특성이 우수합니다.

성능 매개변수

고순도: 순도는 일반적으로 99.99% 이상이거나 고급 응용 분야의 순도 요구 사항을 보장하기 위해 더 높습니다.

높은 투명성: 가시광선 및 근적외선 스펙트럼 범위에서 매우 높은 투명성을 가지며 빛 투과율은 90% 이상으로 정밀 광학 기기 및 광섬유 통신에 적합합니다.

낮은 열팽창 계수: 열팽창 계수는 5.5 × 10 ° C/° C로 매우 낮습니다. 즉, 온도 변화에 따른 치수 변화가 작아 고정밀 치수 안정성이 요구되는 응용 분야에 적합합니다.

고온 저항: 변형 없이 최대 1200°C의 고온을 견딜 수 있어 고온 환경의 응용 분야에 적합합니다.

화학적 안정성: 대부분의 화학 물질과 거의 반응하지 않으며 물, 산, 알칼리 등 일반적인 용액에 대한 내식성이 우수합니다.

기계적 성질 : 경도가 높고 강도가 높으며 내마모성이 우수하여 기계적 응력과 압력에 쉽게 손상되지 않습니다.

적용 분야

광학 기기: 뛰어난 광학 특성으로 인해 분광계, 현미경 및 기타 광학 기기 제조에 널리 사용됩니다.

광섬유 통신: 높은 광선 투과율과 낮은 광 흡수로 인해 광섬유 통신 분야에서 널리 사용됩니다.

반도체 제조: 고온 및 고압 환경에서 반도체 실리콘 웨이퍼 및 기타 응용 분야를 처리하는 데 사용됩니다.

과학적 연구 및 실험: 고온 및 부식에 대한 탁월한 저항성으로 인해 화학 반응을 위한 컨테이너 또는 전송 파이프라인으로 자주 사용됩니다.

뛰어난 성능으로 인해 고순도 광학 1200도 용융 실리카 막대는 많은 첨단 기술 분야에서 중요한 역할을 합니다.

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