高純度光学1200度融合シリカロッド

高純度の光学1200度の融合シリカロッドは、高純度の二酸化シリコン（SIO _ 2）で作られた特別な石英材料であり、優れた光学、熱、および化学的性質を備えています。

パフォーマンスパラメーター

高純度： 純度は通常、ハイエンドアプリケーションで純度要件を確保するために99.99％またはさらに高くなります。

高い透明性： 可視および近赤外スペクトル範囲に非常に高い透明度があり、90％を超える光透過率は、精密光学機器と光ファイバー通信に適しています。

熱膨張係数の低い： 熱膨張係数は非常に低く、5.5×10°C/°Cのみです。つまり、温度が変化すると小さな寸法変化があり、高精度の寸法安定性を必要とするアプリケーションに適しています。

高温抵抗： 高温環境での用途に適した、変形なしで最大1200°Cまでの高温に耐えることができます。

化学物質の安定性： ほとんどの化学物質とはほとんど反応せず、水、酸、アルカリなどの一般的な溶液に対して良好な腐食耐性を持っています。

機械的特性： 高硬度、高強度、耐摩耗性が高いため、機械的なストレスや圧力によって容易に損傷を受けることはありません。

アプリケーションフィールド

光学器具： それらの優れた光学特性により、それらは分光計、顕微鏡、およびその他の光学器具の製造に広く使用されています。

光ファイバー通信： 高光透過率と低光吸収により、光ファイバー通信の分野で広く使用されています。

半導体製造： 高温および高圧環境での半導体シリコンウェーハおよびその他の用途の処理。

科学的研究と実験： 高温と腐食に対する優れた耐性により、それは多くの場合、化学反応のための容器または伝送パイプラインとして使用されます。

パフォーマンスが優れているため、高純度の光学式1200度の融合シリカロッドは、多くのハイテク分野で重要な役割を果たします。

詳細については、お気軽にお問い合わせください。

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