반도체 제조 2-100mm 석영 막대

2~100mm 석영 막대는 반도체 제조에서 중요한 역할을 하며, 그 특성과 용도는 다음과 같이 요약할 수 있습니다.

재료 및 제조: 이 석영 막대는 고순도 석영 재료로 만들어지며 제조 공정에는 석영 모래의 가스 정제 및 용융, 열 변형 및 냉간 가공과 같은 단계가 포함됩니다. 이러한 제조 공정은 석영 막대의 고순도와 우수한 물리적, 화학적 특성을 보장합니다.

응용 분야: 반도체 제조에서 석영 막대는 고온에서 화학 반응을 견딜 수 있는 반응 챔버의 지지 구조로 주로 사용됩니다. 또한, 석영봉은 광섬유 통신, 태양광 패널 생산 등의 분야에도 사용됩니다.

주요 기능:

고온 저항: 석영 막대는 섭씨 1000도 이상의 온도에서 몇 시간 동안 지속적으로 작동할 수 있으므로 확산 및 산화 공정과 같은 반도체 제조의 고온 공정에 적합합니다.

화학적 안정성: 석영 막대는 화학적 안정성이 높고 실험 시약과 쉽게 반응하지 않아 다양한 화학적 환경에 적합합니다.

투명성: 우수한 투명성은 광학 실험 및 스펙트럼 분석에서 중요한 도구입니다.

반도체 제조에 적용: 석영 로드는 반도체의 에칭, 확산 및 산화와 같은 주요 공정에서 캐리어 장치 및 캐비티 소모품으로 중요한 역할을 합니다. 이러한 장치는 다양한 작업 환경 온도에 따라 고온 구역 장치와 저온 구역 장치로 나눌 수 있습니다. 고온용 소자는 확산, 산화 등 고온 공정에 주로 사용되는 반면, 저온 소자는 에칭, 패키징, 포토리소그래피, 세정 등 저온 공정에 사용된다.

2~100mm 석영 막대는 반도체 제조에 없어서는 안 될 역할을 하며, 고순도, 고온 저항, 화학적 안정성 및 투명성으로 인해 다양한 첨단 기술 분야의 핵심 소재가 됩니다.

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