Hoge zuiverheid halfgeleider oxidatie -oven kwarts glazen buis

Hoge zuiverheid Semiconductor Oxidatieoven Quartz Glazen buis is een speciaal type kwarts glas dat voornamelijk wordt gebruikt in het oxidatieproces van de productie van halfgeleiders.

Materiaalkenmerken: Hoge zuiverheid halfgeleider oxidatieovenkwarts glazen buizen zijn voornamelijk gemaakt van hoog-zuiver siliciumdioxide, dat uitstekende mechanische, thermische, optische en elektrische eigenschappen heeft. Deze kenmerken maken het onmisbaar voor toepassingen in industrieën zoals halfgeleiders, optische apparaten, telecommunicatie en zonne -energie.

Toepassingsveld: in de productie van halfgeleiders worden glazen buizen met hoge zuiverheid voornamelijk gebruikt voor gasdistributiesystemen in oxidatiegewanden. Ze kunnen hoge temperaturen en corrosieve omgevingen weerstaan, waardoor uniforme luchtstroom en reacties worden gewaarborgd, waardoor de kwaliteit en efficiëntie van de productieprocessen van halfgeleiders wordt verbeterd.

Productkenmerken: Quartz -buizen van halfgeleiders hebben een hoge zuiverheid, lage hydroxylgroepen en weerstand op hoge temperaturen, waardoor ze een ideale keuze zijn voor het verwerken en verwerken van halfgeleidermaterialen.

Productspecificaties: het buitendiameterbereik, de afwijking van de wanddikte, wandafwijking, ellipticiteit en kromming van kwartbuizen van halfgeleiderkwaliteit zijn allemaal in detail gespecificeerd om hun prestaties en applicatiestabiliteit te waarborgen.

Hoge zuiverheid Semiconductor Oxidatieoven Quartz Glazen buizen spelen een belangrijke rol in het fabrikantveld van de halfgeleider, en hun unieke materiaaleigenschappen en applicatieprestaties maken ze een ideale keuze voor reactieprocessen op hoge temperatuur.