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Hochreinheit Halbleiter Oxidationsofen Quarzglasrohr
Hochreinheit Semiconductor Oxidation Ofen Quarzglasrohr ist eine spezielle Art von Quarzglas, die hauptsächlich im Oxidationsprozess der Semiconductor -Herstellung verwendet wird.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
Hochreinheit Halbleiter Oxidationsofen Quarzglasrohr
Hochreinheit Semiconductor Oxidation Ofen Quarzglasrohr ist eine spezielle Art von Quarzglas, die hauptsächlich im Oxidationsprozess der Semiconductor -Herstellung verwendet wird.
Materialmerkmale: Hochreinheit Halbleiteroxidationsofen-Quarzglasröhrchen bestehen hauptsächlich aus hohem Siliziumdioxid mit hoher Purity, das ausgezeichnete mechanische, thermische, optische und elektrische Eigenschaften aufweist. Diese Eigenschaften machen es für Anwendungen in Branchen wie Halbleitern, optischen Geräten, Telekommunikation und Sonnenenergie unverzichtbar.
Anwendungsfeld: In der Herstellung von Halbleiter werden hochpurige Quarzglasrohre hauptsächlich für Gasverteilungssysteme in Oxidationsöfen verwendet. Sie können hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen standhalten, wodurch einheitlicher Luftstrom und Reaktionen gewährleistet werden, wodurch die Qualität und Effizienz von Halbleiterherstellungsprozessen verbessert werden.
Produktmerkmale: Quarzröhrchen der Halbleiterqualität haben eine hohe Reinheit, niedrige Hydroxylgruppen und Hochtemperaturwiderstand, was sie zu einer idealen Wahl für die Verarbeitung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien macht.
Produktspezifikationen: Der Bereich des Außendurchmessers, die Wanddicke, Wandabweichung, Elliptizität und Krümmung der Quarzrohre der Halbleiterqualität sind im Detail angegeben, um deren Leistungs- und Anwendungsstabilität sicherzustellen.
Hochreine Halbleiteroxidationsofen-Quarzglasröhrchen spielen eine wichtige Rolle im Semiconductor Manufacturing-Bereich, und ihre einzigartigen Materialeigenschaften und ihre Anwendungsleistung machen sie zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.
Hochreinheit Halbleiter Oxidationsofen Quarzglasrohr
Hochreinheit Semiconductor Oxidation Ofen Quarzglasrohr ist eine spezielle Art von Quarzglas, die hauptsächlich im Oxidationsprozess der Semiconductor -Herstellung verwendet wird.
Materialmerkmale: Hochreinheit Halbleiteroxidationsofen-Quarzglasröhrchen bestehen hauptsächlich aus hohem Siliziumdioxid mit hoher Purity, das ausgezeichnete mechanische, thermische, optische und elektrische Eigenschaften aufweist. Diese Eigenschaften machen es für Anwendungen in Branchen wie Halbleitern, optischen Geräten, Telekommunikation und Sonnenenergie unverzichtbar.
Anwendungsfeld: In der Herstellung von Halbleiter werden hochpurige Quarzglasrohre hauptsächlich für Gasverteilungssysteme in Oxidationsöfen verwendet. Sie können hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen standhalten, wodurch einheitlicher Luftstrom und Reaktionen gewährleistet werden, wodurch die Qualität und Effizienz von Halbleiterherstellungsprozessen verbessert werden.
Produktmerkmale: Quarzröhrchen der Halbleiterqualität haben eine hohe Reinheit, niedrige Hydroxylgruppen und Hochtemperaturwiderstand, was sie zu einer idealen Wahl für die Verarbeitung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien macht.
Produktspezifikationen: Der Bereich des Außendurchmessers, die Wanddicke, Wandabweichung, Elliptizität und Krümmung der Quarzrohre der Halbleiterqualität sind im Detail angegeben, um deren Leistungs- und Anwendungsstabilität sicherzustellen.
Hochreine Halbleiteroxidationsofen-Quarzglasröhrchen spielen eine wichtige Rolle im Semiconductor Manufacturing-Bereich, und ihre einzigartigen Materialeigenschaften und ihre Anwendungsleistung machen sie zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.
