高純度半導体酸化炉石英ガラスチューブ

高純度半導体酸化炉石英ガラスチューブは、主に半導体製造の酸化プロセスで使用される特別なタイプの石英ガラスです。

材料の特性： 高純度半導体酸化炉石英ガラスチューブは、主に高純度の二酸化シリコンで作られており、優れた機械的、熱、光学的、電気的特性を備えています。これらの特性により、半導体、光学装置、通信、太陽エネルギーなどの業界でのアプリケーションに不可欠です。

アプリケーションフィールド： 半導体製造では、高純度の石英ガラスチューブが主に酸化炉のガス分布システムに使用されます。彼らは、高温や腐食性環境に耐え、均一な気流と反応を確保し、それにより半導体製造プロセスの品質と効率を改善することができます。

製品の特徴： 半導体グレードの石英チューブは、純度が高く、ヒドロキシル基が低く、高温抵抗があり、半導体材料の処理と処理に理想的な選択肢となっています。

製品の仕様： 外径の範囲、壁の厚さの偏差、壁の偏差、楕円率、および半導体グレードの石英チューブの曲率はすべて、パフォーマンスと用途の安定性を確保するために詳細に指定されています。

高純度半導体酸化炉石英ガラスチューブは、半導体製造分野で重要な役割を果たし、それらのユニークな材料特性とアプリケーション性能により、高温反応プロセスに理想的な選択肢になります。