Halfgeleider mechanische kwartsglasplaat

Halfgeleider mechanische kwartsglasplaat is een speciaal industrieel technisch glas dat voornamelijk wordt gebruikt in de halfgeleiderindustrie. Het is samengesteld uit zeer zuiver siliciumdioxide (SiO2) en heeft uitstekende mechanische, thermische, optische en elektrische eigenschappen. Kwartsglas speelt een onvervangbare rol in industrieën zoals halfgeleiders, optische apparaten, optische communicatie en zonne-energie.

De vorming van kwartsglas wordt veroorzaakt door de hoge viscositeit van de smelt ervan bij hoge temperaturen. Het wordt veel gebruikt in verschillende processen van de productie van halfgeleiders, zoals de directe trekmethode om polykristallijn silicium om te zetten in monokristallijn silicium, reinigingstanks, diffusiebuizen, etsboten, ionenimplantatieklokken, enz. Verschillende soorten, processen en grondstoffen van kwartsglas leiden tot verschillende naamgevingsmethoden, zoals silicaatglas, kwartsglas, gesmolten silica, gesmolten kwarts, synthetisch gesmolten silica, enz. In China wordt kwartsglas meestal geclassificeerd op basis van de procesmethode, het doel en het uiterlijk, zoals elektrisch gesmolten transparant kwartsglas, continu gesmolten kwartsglas, luchtgesmolten transparant kwartsglas, synthetisch kwartsglas, ondoorzichtig kwartsglas, optisch kwartsglas, halfgeleiderkwartsglas en elektro-optisch bronkwartsglas.

De prestaties van kwartsglas hangen vooral af van de zuiverheid ervan, gevolgd door het proces of het thermische regime. De aanwezigheid van sporen van onzuiverheden kan de prestaties ernstig beïnvloeden, terwijl nalatigheid in het proces of het thermische systeem de kwaliteit van het uiterlijk kan beïnvloeden. Daarom is zuiverheid een belangrijke indicator voor kwartsglas, wat een aanzienlijke invloed heeft op de fysische en chemische eigenschappen en bruikbaarheid ervan.