Placa de vidro de sílica fundida de laboratório

A placa de vidro de sílica fundida de laboratório é um tipo especial de vidro de tecnologia industrial, usado principalmente em aplicações que exigem alta resistência ao calor, transmitância ultravioleta e precisão óptica. Este tipo de vidro é um material amorfo feito pela fusão de quartzo natural de alta pureza (como cristal, areia de quartzo), composto principalmente de dióxido de silício (SiO2). É conhecido por seu coeficiente de expansão linear extremamente pequeno (apenas 1/10 ~ 1/20 do vidro comum), excelente resistência ao choque térmico e capacidade de manter a estabilidade sob condições extremas de temperatura. A faixa de temperatura comumente usada é de 1100 ~ 1200 ℃ e pode suportar altas temperaturas de até 1400 ℃ no curto prazo.

A característica estrutural do vidro de quartzo é um material amorfo composto por um único componente de dióxido de silício. Sua estrutura é formada por unidades tetraédricas de dióxido de silício firmemente dispostas que compartilham átomos de oxigênio para formar uma rede tridimensional contínua. Esta estrutura amorfa confere ao vidro de quartzo muitas propriedades físicas e químicas únicas, como excelente transparência espectral, coeficiente de expansão térmica e condutividade extremamente baixos, bem como excelente resistência à radiação e longa vida útil sob condições extremas.

O vidro de quartzo é amplamente utilizado na moderna indústria da informação, óptica, energia fotovoltaica, semicondutores e outras indústrias emergentes estratégicas nacionais, bem como em campos de defesa, como a aeroespacial. Em ambientes de laboratório, é utilizado em equipamentos de laboratório de última geração, dispositivos de extração para produtos especiais de alta pureza e campos que exigem vidros de excelente desempenho óptico. Devido às suas propriedades físicas e químicas únicas, o vidro de quartzo tem um valor de aplicação insubstituível nessas áreas.

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