Die 3,7 * 3,7 * 0,5 mm große quadratische Quarzglasplatte ist ein hochpräzises, leistungsstarkes optisches Material, das häufig in verschiedenen Bereichen eingesetzt wird, in denen eine hohe Lichtdurchlässigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit erforderlich sind. Das Produkt besteht aus hochreinem Siliciumdioxid und gewährleistet dadurch hervorragende physikalische und chemische Eigenschaften.

Produktspezifikationen

Abmessungen: 3,7 mm x 3,7 mm x 0,5 mm

Form: Quadratisch

Material: hochreines Quarzglas

Dichte: 2,2 g/cm ⊃3;

Mohshärte: 6,5

Schmelzpunkt: Quarzglas hat keinen klaren Schmelzpunkt, sondern nur einen Erweichungsbereich, der normalerweise bei etwa 1750 °C beginnt zu erweichen

Silica-Gehalt: 99,99 %

Produktmerkmale

Hohe Lichtdurchlässigkeit: Quarzglas kann sichtbares, ultraviolettes und infrarotes Licht durchlassen und wird daher häufig in optischen Instrumenten, Lasergeräten, Astronomie und Mikroelektronik eingesetzt.

Hohe Temperaturbeständigkeit: Quarzglas weist eine extrem hohe Temperaturbeständigkeit auf, mit Langzeitgebrauchstemperaturen bis zu 1100 °C und kurzfristigen Einsatztemperaturen bis zu 1300 °C. Dies macht es zu einem unverzichtbaren Werkstoff in den Bereichen Metallurgie, chemische Industrie, Luft- und Raumfahrt und Landesverteidigung.

Korrosionsbeständigkeit: Quarzglas verfügt über eine ausgezeichnete chemische Stabilität, kann der Erosion einer Vielzahl von Säuren, Laugen und organischen Lösungsmitteln widerstehen und ist für eine Vielzahl rauer chemischer Umgebungen geeignet.

Geringe Ausdehnung: Quarzglas hat einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, wodurch es in Umgebungen mit großen Temperaturschwankungen eine stabile Größe und Form behält.

Hohe Reinheit: Durch strenge Rohstoffauswahl und Herstellungsverfahren wird die hohe Reinheit von Quarzglas gewährleistet, wodurch es für die Elektronikindustrie mit extrem hohen Anforderungen an den Verunreinigungsgehalt geeignet ist.

Anwendungsgebiet

Optische Instrumente: als Beobachtungsfenster, Linsen, Filter und andere optische Komponenten, die in Mikroskopen, Teleskopen, Kameras und anderen Geräten verwendet werden.

Luft- und Raumfahrt: Wird für Beobachtungsfenster und Wärmedämmschalen von Raketen und Raumfahrzeugen verwendet, um den Anforderungen von Umgebungen mit hohen Temperaturen, hohem Druck und starker Strahlung gerecht zu werden.

Elektronikindustrie: Wird für die Dotierung, Dispersion, Oxidation, Glühung und andere Prozesse von Siliziumwafern im Quarzglas-Dispersionsrohr, in der Quarzglockenabdeckung, im Siliziumwaferträger usw. verwendet.

Chemisch und pharmazeutisch: als Material für Reaktoren, Destillierapparate, Lagertanks und andere Geräte, verwendet für chemische Reaktionen und Arzneimittelzubereitung in Umgebungen mit hohen Temperaturen, hohem Druck und Korrosion.

Nationale Verteidigungsindustrie: Wird für optische Komponenten und Fenstermaterialien in Raketen, Radargeräten und anderen Waffen und Ausrüstungen verwendet.

Produktion und Verarbeitung

Der Produktionsprozess von Quarzglasplatten umfasst die Schritte Rohstoffvorbehandlung, Schmelzen, Formen, Glühen, Schneiden und Schleifen. Durch fortschrittliche Fertigungstechnologie und Qualitätskontrolle werden die hohe Präzision und hohe Leistung des Produkts sichergestellt.

Die 3,7 * 3,7 * 0,5 mm große quadratische Quarzglasplatte ist aufgrund ihrer hervorragenden Leistung und ihres breiten Anwendungsbereichs zu einem unverzichtbaren Material in den Bereichen Optik, Elektronik, Chemie und Luft- und Raumfahrt geworden. Wir sind bestrebt, unseren Kunden qualitativ hochwertige Produkte und hochwertige Dienstleistungen anzubieten, um ihre unterschiedlichen Bedürfnisse zu erfüllen.