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3,7 * 3,7 * 0,5 mm quadratischer Quarzglasplatte
3,7 * 3,7 * 0,5 mm quadratischer Quarzglasplatte ist ein hochpräparates optisches Hochleistungsmaterial, das in verschiedenen Feldern weit verbreitet ist, für die hohe Lichtübertragung, Hochtemperaturwiderstand und Korrosionsbeständigkeit erforderlich sind. Das Produkt besteht aus hoher Purity-Silica, um seine hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften zu gewährleisten.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
3,7 * 3,7 * 0,5 mm quadratischer Quarzglasplatte ist ein hochpräparates optisches Hochleistungsmaterial, das in verschiedenen Feldern weit verbreitet ist, für die hohe Lichtübertragung, Hochtemperaturwiderstand und Korrosionsbeständigkeit erforderlich sind. Das Produkt besteht aus hoher Purity-Silica, um seine hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften zu gewährleisten.
Produktspezifikationen
Abmessungen: 3,7 mm x 3,7 mm x 0,5 mm
Form: Quadrat
Material: Hochreinheit Quarzglas
Dichte: 2,2 g/cm ⊃3;
MOHS -Härte: 6,5
Schmelzpunkt: Quarzglas hat keinen klaren Schmelzpunkt, nur einen weicher Bereich, der normalerweise um 1750 ° C weich wird
Kieselsäurehalt: 99,99%
Produktmerkmale
Hochlichtübertragung: Quarzglas ist in der Lage, sichtbare, ultraviolette und Infrarotlicht zu übertragen, wodurch es in optischen Instrumenten, Lasergeräten, Astronomie und Mikroelektronik häufig verwendet wird.
Hochtemperaturwiderstand: Quarzglas hat extrem hohe Temperaturwiderstand, mit langfristigen Anwendungstemperaturen von bis zu 1100 ° C und kurzfristigen Gebrauchstemperaturen bis zu 1300 ° C. Dies macht es zu einem unverzichtbaren Material in den Bereichen Metallurgie, chemischer Industrie, Luft- und Raumfahrt und nationaler Verteidigung.
Korrosionsbeständigkeit: Quarzglas hat eine ausgezeichnete chemische Stabilität, kann der Erosion einer Vielzahl von Säuren, Alkalis und organischen Lösungsmitteln widerstehen und eignet sich für eine Vielzahl von rauen chemischen Umgebungen.
Niedrige Ausdehnung: Quarzglas hat einen niedrigen thermischen Expansionskoeffizienten, sodass es eine stabile Größe und Form in Umgebungen mit großen Temperaturänderungen aufrechterhalten kann.
Hohe Reinheit: Durch strenge Rohstoffauswahl und Herstellungsprozesse ist die hohe Reinheit von Quarzglas sichergestellt, was es für die Elektronikindustrie mit extrem hohen Anforderungen an Verunreinigungsgehalt geeignet ist.
Anwendungsfeld
Optische Instrumente: Als Beobachtungsfenster, Linsen, Filter und andere optische Komponenten, die in Mikroskopen, Teleskopen, Kameras und anderen Geräten verwendet werden.
Luft- und Raumfahrt: Wird für Beobachtungsfenster und thermische Isolationsschalen von Raketen und Raumfahrzeugen verwendet, um den Bedürfnissen hoher Temperatur, hoher Druck und starken Strahlungsumgebungen zu erfüllen.
Elektronikindustrie: Wird für Silizium -Wafer -Doping, Dispersion, Oxidation, Glühen und andere Prozesse im Quarzglasdispersionsrohr, Quarzglockenabdeckung, Silizium -Waferträger usw. verwendet.
Chemische und pharmazeutische: Als Material für Reaktoren, Brenner, Lagertanks und andere Geräte für chemische Reaktionen und Arzneimittelvorbereitung in hoher Temperatur, hohem Druck und korrosiven Umgebungen.
Nationale Verteidigungsindustrie: Wird für optische Komponenten und Fenstermaterialien in Raketen, Radaren und anderen Waffen und Geräten verwendet.
Produktion und Verarbeitung
Der Produktionsprozess der Quarzglasplatte umfasst die Stufen der Rohstoffmaterial -Vorbehandlung, Schmelzen, Formen, Glühen, Schneiden und Schleifen. Durch fortschrittliche Fertigungstechnologie und Qualitätskontrolle werden die hohe Präzision und hohe Leistung des Produkts gewährleistet.
3,7 * 3,7 * 0,5 mm quadratischer Quarzglasplatte ist aufgrund seiner hervorragenden Leistung und des breiten Anwendungsfeldes zu einem unverzichtbaren Material in den Feldern von Optik, Elektronik, Chemikalie und Luft- und Raumfahrt geworden. Wir sind bestrebt, Kunden qualitativ hochwertige Produkte und hochwertige Dienstleistungen zur Verfügung zu stellen, um ihren verschiedenen Bedürfnissen gerecht zu werden.
3,7 * 3,7 * 0,5 mm quadratischer Quarzglasplatte ist ein hochpräparates optisches Hochleistungsmaterial, das in verschiedenen Feldern weit verbreitet ist, für die hohe Lichtübertragung, Hochtemperaturwiderstand und Korrosionsbeständigkeit erforderlich sind. Das Produkt besteht aus hoher Purity-Silica, um seine hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften zu gewährleisten.
Produktspezifikationen
Abmessungen: 3,7 mm x 3,7 mm x 0,5 mm
Form: Quadrat
Material: Hochreinheit Quarzglas
Dichte: 2,2 g/cm ⊃3;
MOHS -Härte: 6,5
Schmelzpunkt: Quarzglas hat keinen klaren Schmelzpunkt, nur einen weicher Bereich, der normalerweise um 1750 ° C weich wird
Kieselsäurehalt: 99,99%
Produktmerkmale
Hochlichtübertragung: Quarzglas ist in der Lage, sichtbare, ultraviolette und Infrarotlicht zu übertragen, wodurch es in optischen Instrumenten, Lasergeräten, Astronomie und Mikroelektronik häufig verwendet wird.
Hochtemperaturwiderstand: Quarzglas hat extrem hohe Temperaturwiderstand, mit langfristigen Anwendungstemperaturen von bis zu 1100 ° C und kurzfristigen Gebrauchstemperaturen bis zu 1300 ° C. Dies macht es zu einem unverzichtbaren Material in den Bereichen Metallurgie, chemischer Industrie, Luft- und Raumfahrt und nationaler Verteidigung.
Korrosionsbeständigkeit: Quarzglas hat eine ausgezeichnete chemische Stabilität, kann der Erosion einer Vielzahl von Säuren, Alkalis und organischen Lösungsmitteln widerstehen und eignet sich für eine Vielzahl von rauen chemischen Umgebungen.
Niedrige Ausdehnung: Quarzglas hat einen niedrigen thermischen Expansionskoeffizienten, sodass es eine stabile Größe und Form in Umgebungen mit großen Temperaturänderungen aufrechterhalten kann.
Hohe Reinheit: Durch strenge Rohstoffauswahl und Herstellungsprozesse ist die hohe Reinheit von Quarzglas sichergestellt, was es für die Elektronikindustrie mit extrem hohen Anforderungen an Verunreinigungsgehalt geeignet ist.
Anwendungsfeld
Optische Instrumente: Als Beobachtungsfenster, Linsen, Filter und andere optische Komponenten, die in Mikroskopen, Teleskopen, Kameras und anderen Geräten verwendet werden.
Luft- und Raumfahrt: Wird für Beobachtungsfenster und thermische Isolationsschalen von Raketen und Raumfahrzeugen verwendet, um den Bedürfnissen hoher Temperatur, hoher Druck und starken Strahlungsumgebungen zu erfüllen.
Elektronikindustrie: Wird für Silizium -Wafer -Doping, Dispersion, Oxidation, Glühen und andere Prozesse im Quarzglasdispersionsrohr, Quarzglockenabdeckung, Silizium -Waferträger usw. verwendet.
Chemische und pharmazeutische: Als Material für Reaktoren, Brenner, Lagertanks und andere Geräte für chemische Reaktionen und Arzneimittelvorbereitung in hoher Temperatur, hohem Druck und korrosiven Umgebungen.
Nationale Verteidigungsindustrie: Wird für optische Komponenten und Fenstermaterialien in Raketen, Radaren und anderen Waffen und Geräten verwendet.
Produktion und Verarbeitung
Der Produktionsprozess der Quarzglasplatte umfasst die Stufen der Rohstoffmaterial -Vorbehandlung, Schmelzen, Formen, Glühen, Schneiden und Schleifen. Durch fortschrittliche Fertigungstechnologie und Qualitätskontrolle werden die hohe Präzision und hohe Leistung des Produkts gewährleistet.
3,7 * 3,7 * 0,5 mm quadratischer Quarzglasplatte ist aufgrund seiner hervorragenden Leistung und des breiten Anwendungsfeldes zu einem unverzichtbaren Material in den Feldern von Optik, Elektronik, Chemikalie und Luft- und Raumfahrt geworden. Wir sind bestrebt, Kunden qualitativ hochwertige Produkte und hochwertige Dienstleistungen zur Verfügung zu stellen, um ihren verschiedenen Bedürfnissen gerecht zu werden.
