2.2 Dichte transparenter Quarzglas-Halbleiterwafer
2.2 Transparenter Quarzglas-Halbleiterwafer mit Dichte ist ein hochreines Quarzmaterial mit niedrigem Ausdehnungskoeffizienten und hervorragenden optischen und elektrischen Eigenschaften, das in der Halbleiterherstellung, in optischen Geräten und in der Präzisionselektronik weit verbreitet ist.
LUVERRE-Quarz
99,99 %
Innen mit Vakuum-PVC-Beutel und dann mit Luftpolsterfolie umwickelt, außen mit Holzkiste.
nach Kundenwunsch
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Im heutigen sich schnell entwickelnden Bereich der Wissenschaft und Technologie stehen die Leistung und Qualität von Halbleitermaterialien in direktem Zusammenhang mit der Stabilität und Zuverlässigkeit elektronischer Geräte. 2.2 Dichte transparente Quarzglas-Halbleiterwafer haben als Hochleistungsmaterial ein breites Anwendungsspektrum in den Bereichen Präzisionsoptik, Halbleiterfertigung, Lasertechnik und Mikroelektronik.
Materialeigenschaften
Hochtransparent: Quarzglas hat eine extrem hohe Lichtdurchlässigkeit, insbesondere im ultravioletten Bereich, was es zum Material der Wahl für optische Präzisionskomponenten und Hochleistungslasersysteme macht.
Thermische Stabilität: Dieses Material verfügt über einen extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, wodurch es auch in Umgebungen mit hohen Temperaturen formstabil bleibt, was für Geräte, die unter extremen Bedingungen betrieben werden müssen, von entscheidender Bedeutung ist.
Chemische Inertheit: Quarzglas reagiert kaum mit Chemikalien außer Flusssäure, was seinen langfristigen Einsatz in einer Vielzahl von Umgebungen gewährleistet.
Mechanische Festigkeit: Obwohl Quarzglas ein sprödes Material ist, kann es nach einer speziellen Behandlung eine hohe mechanische Festigkeit erreichen und ist für verschiedene Verarbeitungstechniken geeignet.
Elektrische Isolierung: Quarzglas ist ein ausgezeichneter elektrischer Isolator und eignet sich hervorragend für Hochfrequenzanwendungen, da es Leckströme effektiv verhindert und die Sicherheit des Stromkreises verbessert.
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Herstellungsprozess
2.2 Der Produktionsprozess von dichtetransparenten Quarzglas-Halbleiterwafern nutzt die Schmelzhebetechnologie, die interne Defekte und den Gehalt an Verunreinigungen minimiert, was zu höherer Reinheit und weniger Blasen führt. Darüber hinaus kann durch die präzise Steuerung der Abkühlrate die Mikrostruktur des Wafers weiter optimiert und seine physikalischen und chemischen Eigenschaften verbessert werden.

Anwendungsgebiet
Halbleiterindustrie: Wird als Substratmaterial für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen, Solarzellen usw. verwendet.
- Präzisionsoptik: Wird zur Herstellung optischer Komponenten wie Linsen, Prismen und Fensterscheiben verwendet.
Lasertechnologie: Wird als Übertragungsmedium oder Fokussierelement in Hochleistungslasern eingesetzt.
Wissenschaftliche Forschung: Wird als Behälter oder Probenständer in physikalischen und chemischen Experimenten verwendet.
Medizinische Geräte: werden zur Herstellung von Schlüsselkomponenten in medizinischen Bildgebungsgeräten wie Endoskopen und Mikroskopen verwendet.

Kundenbetreuung und Service
Wir bieten umfassenden technischen Support, einschließlich, aber nicht beschränkt auf, Beratung bei der Produktauswahl, Design von Anwendungslösungen und Kundendienst. Für spezifische Anforderungen können wir die Produktion auch an die Kundenanforderungen anpassen, um sicherzustellen, dass die individuellen Bedürfnisse jedes Kunden erfüllt werden.

Transparente Quarzglas-Halbleiterwafer mit einer Dichte von 2,2 sind aufgrund ihrer herausragenden Leistung und zuverlässigen Qualität in vielen High-Tech-Bereichen zu einem der Materialien der Wahl geworden. Egal, ob Sie ein Produkt mit Standardspezifikationen suchen oder eine speziell zugeschnittene Lösung benötigen, wir sind für Sie da.