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0,1-10 mm Halbleiter Fusions Wafer Quarzglasplatte
0,1-10 mm dicker Halbleiterfeuerwafer-Quarzglasplatte ist eine spezielle Art von Industrieglas, das hauptsächlich aus Kieselsäure hergestellt wird. Dieses Material wird in der Halbleiterindustrie aufgrund seiner einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften häufig verwendet.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
0,1-10 mm dicker Halbleiterfeuerwafer-Quarzglasplatte ist eine spezielle Art von Industrieglas, das hauptsächlich aus Kieselsäure hergestellt wird. Dieses Material wird in der Halbleiterindustrie aufgrund seiner einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften häufig verwendet.
Die Eigenschaften von Quarzglas umfassen:
Hochtemperaturwiderstand: Das fusionierte Siliciumdioxidglas hat einen Erweihungspunkt von etwa 1730 ° C und kann bei Temperaturen zwischen 1100 ° C und 1250 ° C für eine lange Zeit bei Temperaturen funktionieren und in kurzer Zeit sogar 1450 ° C erreicht.
Korrosionsbeständigkeit: Neben der empfindlichen Korrosionsbeständigkeit gegen andere Säuren hat Quarzglas nicht nur hydrofluorsäure.
Wärmestabilität: Quarzglas hat einen sehr geringen Wärmeleitungskoeffizienten und kann starken Temperaturänderungen standhalten, z.
Hochlichtübertragung: Quarzglas hat eine gute Durchlässigkeit im gesamten Spektralbereich von Ultraviolett bis Infrarot, mit einer Transmission von mehr als 95% für sichtbares Licht, insbesondere im ultravioletten Band, wobei die maximale Sendung 85% überschreitet.
Elektrische Isolierung: Der Widerstandswert von Quarzglas beträgt das 10.000 -fache des normalen Glass und macht es zu einem hervorragenden elektrischen Isoliermaterial, das auch bei hohen Temperaturen gute elektrische Eigenschaften aufrechterhält.
Diese Eigenschaften von Quarzglas machen es zu einem wichtigen Material für die Halbleiterindustrie, in dem es zur Herstellung von Massenverarbeitungsgeräten und zur Verarbeitungsgeräte mit Einzelwaffen verwendet wird. In der Halbleiterindustrie wird Quarzglas verwendet, um Quarzboote, Quarzbasen, Quarzträger usw. sowie Liner, Ventilplatten, Sprühplatten, Waferträger und Sensoren für die Verarbeitungsgeräte mit einer Wufe herzustellen.
0,1-10 mm dicker Halbleiterfeuerwafer-Quarzglasplatte ist eine spezielle Art von Industrieglas, das hauptsächlich aus Kieselsäure hergestellt wird. Dieses Material wird in der Halbleiterindustrie aufgrund seiner einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften häufig verwendet.
Die Eigenschaften von Quarzglas umfassen:
Hochtemperaturwiderstand: Das fusionierte Siliciumdioxidglas hat einen Erweihungspunkt von etwa 1730 ° C und kann bei Temperaturen zwischen 1100 ° C und 1250 ° C für eine lange Zeit bei Temperaturen funktionieren und in kurzer Zeit sogar 1450 ° C erreicht.
Korrosionsbeständigkeit: Neben der empfindlichen Korrosionsbeständigkeit gegen andere Säuren hat Quarzglas nicht nur hydrofluorsäure.
Wärmestabilität: Quarzglas hat einen sehr geringen Wärmeleitungskoeffizienten und kann starken Temperaturänderungen standhalten, z.
Hochlichtübertragung: Quarzglas hat eine gute Durchlässigkeit im gesamten Spektralbereich von Ultraviolett bis Infrarot, mit einer Transmission von mehr als 95% für sichtbares Licht, insbesondere im ultravioletten Band, wobei die maximale Sendung 85% überschreitet.
Elektrische Isolierung: Der Widerstandswert von Quarzglas beträgt das 10.000 -fache des normalen Glass und macht es zu einem hervorragenden elektrischen Isoliermaterial, das auch bei hohen Temperaturen gute elektrische Eigenschaften aufrechterhält.
Diese Eigenschaften von Quarzglas machen es zu einem wichtigen Material für die Halbleiterindustrie, in dem es zur Herstellung von Massenverarbeitungsgeräten und zur Verarbeitungsgeräte mit Einzelwaffen verwendet wird. In der Halbleiterindustrie wird Quarzglas verwendet, um Quarzboote, Quarzbasen, Quarzträger usw. sowie Liner, Ventilplatten, Sprühplatten, Waferträger und Sensoren für die Verarbeitungsgeräte mit einer Wufe herzustellen.
