Hochtemperatur -Tempernbehandlung von geschmolzener Silica -Glasplatte

Hochtemperaturgegliederte Behandlung der fusionierten Silica -Glasplatte ist ein Verfahren zur Verbesserung der Eigenschaften von Quarzglas. Im Produktionsprozess von Quarzglas erzeugt die thermische Spannung im Glas aufgrund des Einflusses der Temperaturdifferenz. Das Vorhandensein dieser Spannungen kann die optische Gleichmäßigkeit, die mechanische Festigkeit und die strukturelle Stabilität von Quarzglas beeinflussen. Daher besteht der Zweck der Hochtemperatur-Tempernbehandlung darin, diese Belastungen zu beseitigen und die Gesamtleistung von Quarzglas zu verbessern.

Der Annealing -Prozess umfasst mehrere wichtige Schritte, z. B. Heizphase, Einweichenstufe und Kühlphase. Während der Heizstufe wird Quarzglas auf eine bestimmte Temperatur erhitzt, um die innere Spannung zu beseitigen. Die isothermische Isolierungsphase besteht darin, die hohe Temperatur für einen bestimmten Zeitraum aufrechtzuerhalten, um sicherzustellen, dass der Stress vollständig freigesetzt wird. Während der Kühlphase kühlt sich das Glas allmählich ab, um die Erzeugung von Stress wieder zu vermeiden.

Das Glühprozess ist besonders wichtig für Hochleistungs-Quarzglas, da es nicht nur Stressabbau erfordert, sondern auch die Dichte und den Brechungsindex jedes Teils des Glas konsistent machen muss, wodurch die optische Gleichmäßigkeit verbessert wird. Dieser Prozess ist entscheidend für die Erzeugung hochwertiger optischer Komponenten und Präzisionsinstrumente.

Hochtemperaturgegliederte Behandlung der fusionierten Silica -Glasplatte ist ein feiner Prozess mit hohen technischen Anforderungen, was von großer Bedeutung für die Verbesserung der Leistung und des Anwendungsbereichs von Quarzglas von großer Bedeutung ist.

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