Der Das hochtemperaturbeständige Quarz-Reinigungsgestell ist ein hochreines Reinigungs- und Transportgerät, das speziell für die Halbleiter-, Photovoltaik- und Optoelektronikindustrie entwickelt wurde. Es wird präzise aus hochwertigen natürlichen Quarz- oder synthetischen Quarzmaterialien verarbeitet und weist eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit und hervorragende chemische Stabilität auf. In verschiedenen Säurebeiz-, Hochtemperatur-Glüh- und Nassätzprozessen kann dieses Produkt die Verschmutzung durch Metallionen wirksam vermeiden, die Sauberkeit und Ausbeute von Präzisionskomponenten wie Wafern und Siliziumwafern in extremen Umgebungen gewährleisten und ist ein unverzichtbarer Prozessverbrauchsstoff in der modernen Präzisionsfertigung.

FAQ

F1: Welcher maximalen Temperatur kann dieses Quarz-Reinigungsgestell standhalten?

A: Unser Quarz-Reinigungsgestell besteht aus hochreinem Quarzmaterial mit einem Erweichungspunkt von bis zu 1730 ℃. Es kann in Hochtemperaturumgebungen von 1100 ℃ -1200 ℃ über einen langen Zeitraum stabil arbeiten und weist eine ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit auf. Es hält starken Temperaturschwankungen stand, ohne zu platzen.

F2: Wird der Quarzrahmen korrodieren, wenn er in einem Reinigungstank mit starker Säure oder starker Lauge verwendet wird?

A: Quarz weist eine extrem hohe Säure- und Alkali-Korrosionsbeständigkeit auf (außer Flusssäure). Bei herkömmlichen Nassreinigungsprozessen für Halbleiter (wie z. B. Schwefelsäure, Wasserstoffperoxid, Ammoniakwasser usw., die bei der RCA-Reinigung verwendet werden) können Quarz-Reinigungsgestelle eine extrem hohe chemische Inertheit aufrechterhalten und es kommt nicht zur Ausfällung von Verunreinigungen, die die Reinigungslösung verunreinigen könnten.

F3: Unterstützen Sie nicht standardmäßige Anpassungen? Wie lang ist der übliche Anpassungszyklus?

A: Ja, wir bieten umfassende maßgeschneiderte Dienstleistungen an. Spezielle Kartensteckplatzdesigns, unregelmäßige Strukturen oder bestimmte Maßtoleranzen können wir nach Ihren Zeichnungen oder Mustern bearbeiten. Der reguläre Anpassungszyklus beträgt in der Regel 7–15 Werktage, abhängig von der Komplexität des Prozesses.

F4: Welche Vorteile haben Quarz-Reinigungsgestelle gegenüber Reinigungsgestellen aus PTFE oder Edelstahl?

A: Im Vergleich zu Edelstahl weist Quarz eine extrem hohe Reinheit auf (SiO2-Gehalt ≥ 99,99 %) und es besteht kein Risiko einer Metallionenausfällung; Im Vergleich zu PTFE weist Quarz eine höhere Temperaturbeständigkeit auf und eignet sich zum Reinigen und Transportieren in Hochtemperatur-Diffusionsöfen. Es weist außerdem eine höhere mechanische Festigkeit auf und verformt sich nicht so leicht.

Benutzerbedürfnisse und Problemlösung

Für diejenigen unter Ihnen, die den ultimativen Ertrag anstreben: Unser Produkt geht auf die folgenden Kernherausforderungen ein:

Beseitigen Sie Sekundärverschmutzung: Lösen Sie das Problem der Ablagerung von Verunreinigungen auf der Oberfläche von Wafern, die durch herkömmliche Metall- oder minderwertige Materialbefestigungen in sauren Umgebungen mit hohen Temperaturen verursacht werden.

Verlängern Sie die Lebensdauer: Lösen Sie das Problem, dass herkömmliche Vorrichtungen bei häufiger Wärmeausdehnung und -kontraktion zu Verformungen und Rissen neigen, was zu einer hohen Austauschhäufigkeit und unkontrollierbaren Kosten führt.

Verbesserung der Prozessstabilität: Durch präzise dimensionale Verarbeitung wird die Konsistenz der lasttragenden Position jeder Produktcharge sichergestellt und das Problem der automatischen Übertragungsverzögerung oder ungleichmäßigen Erwärmung der Produktionslinie gelöst.

Anwendung und Kernvorteile

Unser hochtemperaturbeständiges Quarz-Reinigungsgestell wird häufig in der Halbleiterwafer-Herstellung, der Solarzellenproduktion, der Verarbeitung von LED-Saphirsubstraten und der Präzisionsverarbeitung von optischem Glas eingesetzt.

Kernvorteile:

Ultrahochreines Material: Es wird hochreiner Quarzsand mit extrem niedrigem Gehalt an Metallverunreinigungen ausgewählt (Spurenelemente wie Fe, Al, K, Na werden auf PPM-Niveau kontrolliert), wodurch die Prozessreinheit von der Quelle an sichergestellt wird.

Hervorragende Bearbeitungsgenauigkeit: Fortschrittliche CNC-Gravur- und Laserbearbeitungstechnologie wird übernommen, und die Schlitztoleranz kann innerhalb von ± 0,05 mm kontrolliert werden, wodurch ein reibungsloses Einsetzen und Entfernen von Siliziumwafern/Wafern ohne die Gefahr von Kratzern gewährleistet wird.

Hervorragende Thermoschockbeständigkeit: Nach einem strengen Glühprozess zur Beseitigung innerer Spannungen behält es seine strukturelle Integrität bei, selbst wenn es schnell von Raumtemperatur aus in einen Hochtemperaturofen (oder umgekehrt) gestellt wird.

Vielfältige Spezifikationsanpassung:

Schlitzanpassung: Wir können verschiedene Designs wie V-förmige Schlitze, U-förmige Schlitze und abgestufte Schlitze anbieten, die für verschiedene Spezifikationen von Wafern und quadratischen Siliziumwafern wie 4 Zoll, 6 Zoll, 8 Zoll und 12 Zoll geeignet sind.

Strukturelle Anpassung: Unterstützt verschiedene strukturelle Designs wie Einzelstücke, mehrteilige Stapelung, Korbstil usw., um den Beladungsanforderungen verschiedener Reinigungsmaschinen und Diffusionsöfen gerecht zu werden.

Zubehörkombination: Kann mit Quarzabdeckung, Quarzgriff und anderen Komponenten zu einem kompletten Reinigungs- und Tragesystem kombiniert werden.

Kundenanwendungsfälle

Fall 1: Ein namhaftes Unternehmen zur Herstellung von Photovoltaikzellen

Problem: Während des Reinigungs- und Samtherstellungsprozesses der PERC-Zellen kam es beim ursprünglichen PTFE-Blumenkorb des Kunden aufgrund des langen Eintauchens in eine alkalische Lösung mit hoher Temperatur zu einer leichten Schwellung und Verformung, was zu häufigen Unfällen führte, als der Roboterarm ihn ergriff. Darüber hinaus fielen gelegentlich Verunreinigungen am Boden des Reinigungstanks aus, die die Umwandlungseffizienz der Zellen beeinträchtigten.

Lösung: Wir haben dafür einen verdickten, hochtemperaturbeständigen Quarz-Reinigungsblumenkorb maßgeschneidert. Für die automatisierte Produktionslinie haben wir das Design des unteren Stützfußes speziell optimiert, um die Gesamtsteifigkeit zu verbessern. Gleichzeitig wurde eine spezielle Polierbehandlung an der Oberfläche durchgeführt, um das Phänomen des Hängenbleibens von Flüssigkeiten zu reduzieren.

Anwendungswirksamkeit: Nach 6 Monaten Ersatznutzung berichteten Kunden von einem Rückgang der Spanabwurfrate in der Produktionslinie um 98 %. Darüber hinaus wurde aufgrund der hohen Transparenz und chemischen Stabilität von Quarz die Ausfällung von Verunreinigungen im Reinigungstank deutlich reduziert und die durchschnittliche photoelektrische Umwandlungseffizienz der Batteriezellen um 0,05 % erhöht.

Fall 2: Eine Fabrik zur Verarbeitung von Halbleitersubstraten aus Siliziumkarbid (SiC) der dritten Generation (anonym)

Vor Problemen: Siliziumkarbid-Substrate haben eine hohe Härte und einen hohen Wert, und der Reinigungsprozess erfordert hohe Temperaturen und starke Säure. Aufgrund des unvernünftigen Designs des Kartensteckplatzes war der bisherige Quarzrahmen des Kunden anfällig für Mikrorisse am Rand des Kartensteckplatzes unter Temperaturschock, die die Substratoberfläche zerkratzen und enorme wirtschaftliche Verluste verursachen konnten.

Lösung: Das technische Team hat intensiv mit dem Kundeningenieur kommuniziert, die R-Winkel-Krümmung des Kartensteckplatzes neu gestaltet und synthetisches Quarzmaterial verwendet, um die Materialgleichmäßigkeit zu verbessern. Während der Verarbeitung haben wir mehrere Glühprozesse eingeführt, um eine gründliche Spannungsentlastung zu gewährleisten.

Anwendungseffekt: Das neu angepasste Quarzreinigungsgestell hat den Test des Hochtemperatur-Glühprozesses bei 1200 °C erfolgreich bestanden und wurde mehr als 500 Zyklen lang ohne Risse oder Verformungen kontinuierlich verwendet, wodurch hochwertige SiC-Substrate perfekt geschützt wurden und hohe Anerkennung von der Forschungs- und Entwicklungsabteilung des Kunden erlangt wurde.

Wenn Sie auf der Suche nach einer Quarzreinigungs- und Lagerlösung mit hoher Stabilität und langer Lebensdauer sind, können Sie uns jederzeit kontaktieren! Bitte geben Sie Ihre spezifischen Abmessungen, Betriebstemperaturen und Anforderungen an die Prozessumgebung an. Unsere Ingenieure unterbreiten Ihnen dann kostenlose Auswahlvorschläge und genaue Angebote.

Luverre Quartz produziert und vertreibt ein breites Sortiment an hochwertigem Quarzglas, darunter Quarzrohre, Quarzplatten, Quarzstäbe, Quarzglasfenster, Quarztiegel, Quarzschiffchen, Quarzglasflansche, Quarzglasbecher, Quarzglasinstrumente und mehr. Wir können alle Arten von individuellen Anforderungen an Quarzglasprodukte erfüllen.

Für weitere Informationen können Sie uns gerne kontaktieren.