Placa de vidrio de cuarzo con sustrato de fotomáscara de alta transmitancia
La placa de vidrio de cuarzo con sustrato de fotomáscara de alta transmitancia es uno de los materiales básicos clave en la tecnología de semiconductores.
cuarzo LUVERRE
99,99%
Interior con bolsa de PVC al vacío y luego envuelto con película de burbujas de aire, exterior con caja de madera.
según el requisito del cliente
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Placa de vidrio de cuarzo con sustrato de fotomáscara de alta transmitancia
La placa de vidrio de cuarzo con sustrato de fotomáscara de alta transmitancia es uno de los materiales básicos clave en la tecnología de semiconductores. Este tipo de sustrato de vidrio de cuarzo se utiliza principalmente en los campos de chips semiconductores y pantallas planas, y es un componente importante de la tecnología de fotomáscara. La tecnología de fotomáscara desempeña un papel crucial en la fabricación de semiconductores, ya que replica los patrones de circuito de la máscara en chips o paneles de cristal líquido mediante fotolitografía, lo que permite la producción en masa de circuitos integrados o paneles de cristal líquido.

Los sustratos de fotomáscara se pueden dividir en sustratos de máscara de vidrio de cuarzo, sustratos de máscara de vidrio de borosilicato y sustratos de máscara de vidrio de sosa (vidrio de cal sodada) según su composición de vidrio. Los sustratos de vidrio de cuarzo tienen ventajas en la selección de materiales para sustratos de fotomáscaras debido a su alta transmitancia óptica, baja expansión térmica, excelentes características espectrales, alta dureza y larga vida útil, y la demanda del mercado aumenta año tras año.
El proceso de fabricación de sustratos de vidrio de cuarzo incluye fusión, procesamiento en caliente y procesamiento en frío. Aunque la tecnología de síntesis de vidrio de cuarzo es avanzada, es compleja y requiere un control del proceso muy preciso. En los últimos años, con el desarrollo integrado de la tecnología de semiconductores, las propiedades de los materiales y los requisitos de precisión de procesamiento para los sustratos de vidrio de cuarzo con fotomáscara se han vuelto cada vez más altos, y los requisitos del proceso para su preparación también se han vuelto cada vez más estrictos.

La aplicación de placa de vidrio de cuarzo con sustrato de fotomáscara de alta transmitancia en los campos de semiconductores y pantallas planas aumenta día a día, y los requisitos de propiedades del material y precisión del procesamiento también mejoran constantemente, lo que promueve el desarrollo continuo y la innovación de tecnologías relacionadas.