Placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomatería de alta transmitancia
La placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomástica de alta transmitancia es uno de los materiales básicos clave en la tecnología de semiconductores.
Cuarzo de luverre
99.99%
Interior con bolsa de PVC de vacío y luego envuelto con película de burbujas de aire, exterior con caja de madera.
Según el requisito del cliente
Disponibilidad: | |
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Placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomatería de alta transmitancia
La placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomástica de alta transmitancia es uno de los materiales básicos clave en la tecnología de semiconductores. Este tipo de sustrato de vidrio de cuarzo se usa principalmente en los campos de chips de semiconductores y pantallas de paneles planos, y es un componente importante de la tecnología de fotomas. La tecnología Photomask juega un papel crucial en la fabricación de semiconductores, ya que replica los patrones de circuito en la máscara sobre papas fritas o vidrio de panel de cristal líquido a través de la fotolitografía, lo que permite la producción en masa de circuitos integrados o paneles de cristal líquido.
Los sustratos de fotomatas se pueden dividir en sustratos de máscara de vidrio de cuarzo, sustratos de máscara de vidrio de borosilicato y sustratos de máscara de vidrio de soda (vidrio de lima) en función de su composición de vidrio. Los sustratos de vidrio de cuarzo tienen ventajas en la selección de materiales para sustratos de fotomatas debido a su alta transmitancia óptica, baja expansión térmica, excelentes características espectrales, alta dureza y larga vida útil, y la demanda del mercado aumenta año tras año.
El proceso de fabricación de sustratos de vidrio de cuarzo incluye fusión, procesamiento en caliente y procesamiento en frío. Aunque la tecnología de sintetización de vidrio de cuarzo es avanzada, es compleja y requiere un control de procesos muy preciso. En los últimos años, con el desarrollo integrado de la tecnología de semiconductores, las propiedades del material y los requisitos de precisión de procesamiento para sustratos de vidrio de cuarzo de fotomatería se han vuelto cada vez más altos, y los requisitos del proceso para su preparación también se han vuelto cada vez más estrictos.
La aplicación de la placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomástica de alta transmitancia en los campos de semiconductores y pantalla plana aumenta día a día, y los requisitos para las propiedades del material y la precisión del procesamiento también mejoran constantemente, lo que promueve el desarrollo continuo y la innovación de las tecnologías relacionadas.
Placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomatería de alta transmitancia
La placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomástica de alta transmitancia es uno de los materiales básicos clave en la tecnología de semiconductores. Este tipo de sustrato de vidrio de cuarzo se usa principalmente en los campos de chips de semiconductores y pantallas de paneles planos, y es un componente importante de la tecnología de fotomas. La tecnología Photomask juega un papel crucial en la fabricación de semiconductores, ya que replica los patrones de circuito en la máscara sobre papas fritas o vidrio de panel de cristal líquido a través de la fotolitografía, lo que permite la producción en masa de circuitos integrados o paneles de cristal líquido.
Los sustratos de fotomatas se pueden dividir en sustratos de máscara de vidrio de cuarzo, sustratos de máscara de vidrio de borosilicato y sustratos de máscara de vidrio de soda (vidrio de lima) en función de su composición de vidrio. Los sustratos de vidrio de cuarzo tienen ventajas en la selección de materiales para sustratos de fotomatas debido a su alta transmitancia óptica, baja expansión térmica, excelentes características espectrales, alta dureza y larga vida útil, y la demanda del mercado aumenta año tras año.
El proceso de fabricación de sustratos de vidrio de cuarzo incluye fusión, procesamiento en caliente y procesamiento en frío. Aunque la tecnología de sintetización de vidrio de cuarzo es avanzada, es compleja y requiere un control de procesos muy preciso. En los últimos años, con el desarrollo integrado de la tecnología de semiconductores, las propiedades del material y los requisitos de precisión de procesamiento para sustratos de vidrio de cuarzo de fotomatería se han vuelto cada vez más altos, y los requisitos del proceso para su preparación también se han vuelto cada vez más estrictos.
La aplicación de la placa de vidrio de cuarzo de sustrato de fotomástica de alta transmitancia en los campos de semiconductores y pantalla plana aumenta día a día, y los requisitos para las propiedades del material y la precisión del procesamiento también mejoran constantemente, lo que promueve el desarrollo continuo y la innovación de las tecnologías relacionadas.