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Lastra di vetro al quarzo con substrato Photomask ad alta trasmittanza

  • Lastra di vetro al quarzo con substrato di fotomaschera ad alta trasmittanza

  • La lastra di vetro al quarzo con substrato per fotomaschera ad alta trasmittanza è uno dei materiali di base chiave nella tecnologia dei semiconduttori.

  • Quarzo LUVERRE

  • 99,99%

  • Interno con sacchetto in PVC sottovuoto e poi avvolto con pellicola a bolle d'aria, esterno con scatola di legno.

  • secondo il requisito del cliente

Disponibilità:

Lastra di vetro al quarzo con substrato di fotomaschera ad alta trasmittanza


La lastra di vetro al quarzo con substrato per fotomaschera ad alta trasmittanza è uno dei materiali di base chiave nella tecnologia dei semiconduttori. Questo tipo di substrato di vetro al quarzo viene utilizzato principalmente nei campi dei chip semiconduttori e dei display a schermo piatto ed è un componente importante della tecnologia delle fotomaschere. La tecnologia delle fotomaschere svolge un ruolo cruciale nella produzione di semiconduttori, poiché replica i modelli circuitali sulla maschera su chip o pannelli di vetro a cristalli liquidi attraverso la fotolitografia, consentendo la produzione in serie di circuiti integrati o pannelli a cristalli liquidi.


Lastra di vetro al quarzo con substrato di fotomaschera ad alta trasmittanza


I substrati della fotomaschera possono essere suddivisi in substrati della maschera di vetro di quarzo, substrati della maschera di vetro borosilicato e substrati della maschera di vetro soda (vetro soda-calcico) in base alla loro composizione di vetro. I substrati in vetro al quarzo presentano vantaggi nella scelta dei materiali per i substrati delle fotomaschere grazie alla loro elevata trasmittanza ottica, bassa espansione termica, eccellenti caratteristiche spettrali, elevata durezza e lunga durata, e la domanda del mercato aumenta di anno in anno.


Il processo di produzione dei substrati di vetro al quarzo comprende la fusione, la lavorazione a caldo e la lavorazione a freddo. Sebbene la tecnologia di sintesi del vetro al quarzo sia avanzata, è complessa e richiede un controllo del processo estremamente preciso. Negli ultimi anni, con lo sviluppo integrato della tecnologia dei semiconduttori, le proprietà dei materiali e i requisiti di precisione di lavorazione per i substrati di vetro al quarzo per fotomaschere sono diventati sempre più elevati, e anche i requisiti di processo per la loro preparazione sono diventati sempre più rigorosi.


proprietà del quarzo


L'applicazione della lastra di vetro al quarzo con substrato di fotomaschera ad alta trasmittanza nei settori dei semiconduttori e dei display a schermo piatto aumenta di giorno in giorno e anche i requisiti per le proprietà dei materiali e l'accuratezza della lavorazione sono in costante miglioramento, il che promuove lo sviluppo continuo e l'innovazione delle tecnologie correlate.


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