高光透過率融合シリカガラス板

高透過率融合シリカガラスプレートは、一種の高度な光学材料であり、優れた光学性能と化学的安定性を備えており、さまざまな高精度光学および電子アプリケーションに適しています。この材料は、高純度の二酸化シリコン（SIO2）材料と高品質のウェーハで作られており、高度な融解および処理技術を通じて生成されます。

融合シリカガラスの利点は次のとおりです。

優れた光学性能：高精度の光学アプリケーションに適した、透明性、低い散乱、低吸収特性を備えています。

優れた化学的安定性：さまざまな化学物質の侵食に抵抗することができます。

高温の安定性：高温環境で安定した性能を維持できます。

精密機械加工と研磨プロセス：ウェーハの表面の品質と寸法精度を確保します。

アプリケーションフィールドは非常に広いです。

光学式ストレージメディアの薄膜層として、高密度のデータストレージを実現するために使用されます。

環境監視、生物医学、その他の分野のアプリケーションのための非常に敏感な光学センサーを開発します。

特に透過率が高い深い紫外線領域では、紫外線レーザーに使用されます。

高出力レーザーやイメージングフィールドなど、紫外線から近赤外波長範囲のアプリケーション。

融合したシリカガラスプレートは、優れた化学物質の安定性と高温の安定性も示しており、過酷な環境条件下で安定した性能を維持できます。融合シリカガラス板の高い純度、優れた光学特性、化学的安定性により、光学製造、電子機器、航空宇宙、科学研究、その他の産業に重要な用途と価値があります。

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