超薄い融合シリカガラス板

超薄い融合シリカガラス板は、優れた物理的および化学的特性で有名なハイテク素材です。

超薄融合シリカガラス板は、特別な融解と冷却プロセスを通じて、高純度の二酸化シリコン（SIO2）で作られた非常に薄いアモルファスケイ酸塩材料です。彼らは通常、数十から数百のマイクロメートル、高い透明性、優れた耐熱性、良好な化学的安定性、および低熱膨張係数の範囲の厚さを持っています。

高い透明度： 超薄融合シリカガラス板は、光学アプリケーションに適した可視光および近赤外スペクトルで非常に高い透明度を持っています。

高温抵抗： このタイプのガラスパネルは、通常のガラスよりもはるかに高い柔らかい点で、通常は1600°Cを超える非常に高い温度で安定性を維持できます。

化学的安定性： 超薄融合シリカガラス板は、酸、アルカリ、有機溶媒など、ほとんどの化学物質に対して非常に高い耐性を持っています。

低熱膨張係数： 熱膨張係数が非常に低いため、温度が変化するとサイズが非常に小さくなり、正確な温度制御が必要なアプリケーションに適しています。

機械的強度： 超薄いにもかかわらず、このタイプのガラス板にはまだ特定の機械的強度があり、精密な電子および光学デバイスに適しています。

電気断熱材： 超薄融合シリカガラス板は、電子および電気産業に適した優れた電気断熱材です。

アプリケーション機能：

光学アプリケーション：透明性が高く、光学性能が優れているため、超薄融合シリカガラスプレートは、レンズ、窓、格子などの光学デバイスの製造によく使用されます。

電子デバイス：半導体および電子産業の断熱層、基質、および包装材料として使用されます。

センサーと機器：高精度センサーと科学機器の主要なコンポーネントの製造に適しています。

アプリケーション領域：

半導体製造：半導体製造プロセスにおけるフォトリソグラフィマスク、ウェーハキャリア、および高温治療として使用されます。

光学機器：顕微鏡、分光計、およびその他の光学器具で使用される光学成分。

画面とタッチスクリーンの表示：スマートフォン、タブレット、その他のディスプレイデバイスの重要な素材として。

研究と医療：高い透明性と化学的安定性が必要な研究所と医療機器で使用されます。

超薄融合シリカガラス板は、特に独自の特性により、特に光学、電子、半導体産業で広く使用されています。

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