半導体グレードの融合シリカウィンドウスライス

半導体グレードの融合シリカウィンドウスライスは、高純度の二酸化シリコン（SIO2）材料で作られた光学要素であり、主に半導体製造およびその他のハイテク畑で使用されています。これらの窓は、高温で高純度の石英砂を溶かして冷却することにより、ガラスのようなアモルファス構造を形成します。その光学的および物理的特性により、さまざまな光学アプリケーションで重要な役割を果たします。

融合シリカウィンドウスライスの主な特徴は次のとおりです。

広いスペクトル透明度：これらのウィンドウは、通常160ナノメートルから3.5マイクロメートルまで、紫外線（UV）に近赤外（NIR）範囲に高い透過率を持っています。

高い光学的均一性：これは、光が窓を通過するときに高度な均一性を維持することを意味します。

優れた化学物質の安定性：融合シリカは、化学物質の安定性が良好で、さまざまな化学環境に適しています。

優れた熱安定性：これらのウィンドウパネルは、高温環境に耐えることができ、高温用途に適しています。

アンチレーザー損傷：レーザー放射に抵抗することができ、レーザー技術アプリケーションに適しています。

カスタマイズ可能性：特定のアプリケーション要件によると、融合したシリカウィンドウピースは、さまざまな仕様とパフォーマンスパラメーターでカスタマイズできます。

さらに、JGS1、JGS2、JGS3、7980、SK-1300、BF33などの融合シリカウィンドウピースの特定のモデルは、特定の物理的、熱的、光学的特性を持ち、さまざまなアプリケーションシナリオに適しています。

半導体製造では、純粋さ、優れた光学特性、化学的安定性のために、融合シリカウィンドウが広く使用されています。それらは、光リソグラフィ、検出、およびその他の半導体プロセスの光学窓として一般的に使用され、光ビームの正確な伝送と処理を確保します。

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