赤外線吸収融合シリカガラス板

赤外線吸収融合シリカガラス板は、主に近赤外帯域で使用される特別なタイプの光学ガラス材料です。このガラス板の特徴は、通常5ppm未満の非常に低いヒドロキシル（OH-）含有量であり、赤外線領域の吸収を最小限に抑えます。光学アプリケーションでは、石英ガラスの吸収、透過、散乱、光学的均一性が重要な指標です。特に高純度の融合シリカガラスでは、最も明らかな吸収ピークが945NM、1245NM、1385NM、2210NM、2700NM-2800NMに現れます。これらの吸収ピークは、主にシリカ材料構造におけるOHの存在によって引き起こされます。

上昇した温度での赤外線吸収融合シリカガラス板の性能も重要な考慮事項です。たとえば、レーザー照射では、融合シリカガラスの温度上昇は、材料の吸収値と光スポットのサイズに関連しています。シミュレーション実験は、融合シリカガラスの温度増加が線形であり、特定のスポットサイズとレーザー出力の下で吸収値が線形であることを示しています。

このタイプのガラス板は、レーザー材料処理、高精度干渉計、分光計、医療用途、高エネルギーレーザーなど、近赤外用途では重要です。典型的な近赤外融合シリカ要素には、レンズ、ビームスプリッター、ウィンドウスライス、保護窓スライス、プリズム、光学導波路が含まれます。

赤外線吸収融合シリカガラス板は、その優れた性能と幅広い使用により、近赤外光学界の分野で重要な役割を果たします。

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