軟化点＞1700℃ 石英ガラス管

軟化点が1700℃を超える石英ガラス管は、高純度の二酸化ケイ素（SiO 2 ）を主成分とした高性能素材です。この石英ガラス管の軟化点温度は約1730℃で、1100℃で長期間安定して使用でき、短期使用の最高温度は1450℃に達します。優れた耐高温性により、通常の石英管の軟化点1270℃をはるかに超える超高温環境でも性能を発揮します。

この石英ガラス管は高温耐性があるだけでなく、次のような特徴もあります。

・低い熱膨張係数： 熱膨張係数が5.4×10⁻⁷と極めて小さく、0～1000℃の平均膨張係数が一般ガラスの1/12～1/20に相当するため、急激な温度変化にも耐えられます。

・化学的安定性が高い： 石英ガラスはフッ酸や300℃以上の熱リン酸を除き、他の酸性物質とほとんど化学反応を起こしません。耐酸性はセラミックの30倍、ステンレスの150倍です。

・高透過率： 紫外から赤外までの全スペクトル帯域において良好な透過性能を有し、可視光線透過率93％以上、紫外スペクトル領域での最大透過率は80％までとなります。

-高純度： 高純度石英ガラスは不純物を導入せず、高純度で敏感な化学反応のニーズに適しています。

応用

高温炉および反応器

- 管状炉: 軟化点が 1700 °C を超える石英ガラス管は、高い軟化点と高温耐性により、管状炉に最適な材料であり、化学蒸着 (CVD)、アニーリング、材料合成などの高温プロセスに使用できます。

-石英ガラス反応容器：この石英ガラス管は、高温の化学反応、特に光暴露を必要とする実験に適した反応容器の製造に使用できます。

光学および光通信

-光学部品：高い透過率と低い熱膨張係数により、紫外線から赤外線までのスペクトル範囲に適したレンズ、プリズム、窓パネルの製造に最適な材料です。

-光ファイバーの製造: 石英ガラス管は光ファイバーのプリフォームの製造に使用でき、その高純度と低吸収特性により、ファイバーの伝送性能の向上に役立ちます。

半導体およびエレクトロニクス産業

-拡散炉: 半導体製造において、石英ガラス管は、高温ドーピングプロセスのためにシリコンウェーハを搬送するための拡散炉の炉管として使用されます。

-リソグラフィー装置：石英ガラス管はリソグラフィー装置の光学系に使用され、高精度のビーム伝送を保証します。

医療および生命科学

-医療用レーザー: 石英ガラス管を医療用レーザーの伝送導管または反射板として使用して、効率的なレーザー伝送を確保できます。

-内視鏡コンポーネント: 一部のハイエンド内視鏡は、画像の送信に石英光ファイバーを使用しています。

特殊な産業用途

-高温センサー保護：石英ガラス管を使用して熱電対や赤外線温度計を保護することができ、高温環境でも安定して動作します。

-原子力産業: 原子力産業では、石英ガラス管は放射線環境の観察窓やセンサー保護管として使用できます。

カスタマイズされた説明

サイズのカスタマイズ

軟化点が 1700 °C を超える石英ガラス管は、外径​​、内径、長さなど、特定の顧客の要件に応じてサイズをカスタマイズできます。外径範囲は通常 5mm ～ 300mm で、特定の用途要件に応じて長さをカスタマイズできます。

表面処理

石英ガラス管には、研磨、コーティングなどのさまざまな表面処理オプションがあります。研磨処理により、極めて低い表面粗さが保証され、散乱損失が低減されます。さらに、光学性能を最適化するために、必要に応じて反射防止フィルムや反射フィルムをカスタマイズできます。

材料特性のカスタマイズ

お客様は、用途のニーズに応じて、水酸基含有量と金属不純物含有量が異なる石英ガラス管を選択できます。高純度石英ガラス（ヒドロキシル含有量<1ppm、金属不純物含有量<100ppb）は、高出力レーザー用途に適しています。

処理サービス

標準的な石英ガラス管製品に加えて、切断、成形、穴あけ、研削、研磨などのさらなる加工サービスも提供できます。これらのカスタマイズされたサービスは、さまざまな顧客の特別なニーズを満たすことができ、さまざまな複雑な用途における石英ガラス管の性能と信頼性を保証します。

軟化点が 1700 °C を超える石英ガラス管は、優れた高温耐性、低い熱膨張係数、高い化学的安定性、および高い透過率により、高温産業や精密光学用途の主要な材料となっています。そのカスタマイズ機能により、アプリケーション範囲がさらに拡大され、さまざまな顧客の特定のニーズを満たすことができます。

詳細につきましては、お気軽にお問い合わせください。

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