Placa de vidro de sílica fundida ultra fina

A placa de vidro de sílica fundida ultra fina é um material de alta tecnologia, famoso por suas excelentes propriedades físicas e químicas.

A placa de vidro de sílica fundida ultra fina é um material de silicato amorfo extremamente fino feito de dióxido de silício de alta pureza (SiO2) através de processos especiais de fusão e resfriamento. Eles normalmente têm uma espessura que varia de dezenas a centenas de micrômetros, alta transparência, excelente resistência ao calor, boa estabilidade química e baixo coeficiente de expansão térmica.

Alta transparência: a placa de vidro de sílica fundida ultrafina tem transparência extremamente alta na luz visível e no espectro infravermelho próximo, adequado para aplicações ópticas.

Resistência à alta temperatura: esse tipo de painel de vidro pode manter a estabilidade a temperaturas extremamente altas, com um ponto de amolecimento muito maior que o vidro comum, normalmente acima de 1600 ° C.

Estabilidade química: a placa de vidro de sílica fundida ultrafina tem resistência extremamente alta à maioria dos produtos químicos, incluindo ácidos, álcalis e solventes orgânicos.

Coeficiente de expansão térmica baixo: possui um coeficiente de expansão térmica muito baixo, o que torna o tamanho mudar extremamente pequeno quando a temperatura muda, tornando -o adequado para aplicações que requerem controle preciso da temperatura.

Resistência mecânica: apesar de ser ultrafino, esse tipo de placa de vidro ainda possui uma certa resistência mecânica, tornando-a adequada para dispositivos eletrônicos e ópticos de precisão.

Isolamento elétrico: A placa de vidro de sílica fundida ultrafina é um bom material de isolamento elétrico, adequado para indústrias eletrônicas e elétricas.

Recursos de aplicativo:

Aplicação óptica: Devido à sua alta transparência e excelente desempenho óptico, a placa de vidro de sílica fundida ultrafina é frequentemente usada para fabricar dispositivos ópticos, como lentes, janelas e grades.

Dispositivos eletrônicos: usados ​​como camadas de isolamento, substratos e materiais de embalagem nas indústrias de semicondutores e eletrônicos.

Sensores e instrumentos: Adequado para fabricar os principais componentes em sensores de alta precisão e instrumentos científicos.

Áreas de aplicação:

Fabricação de semicondutores: usada como máscara de fotolitografia, transportadora de wafer e tratamento de alta temperatura no processo de fabricação de semicondutores.

Instrumentos ópticos: componentes ópticos usados ​​em microscópios, espectrômetros e outros instrumentos ópticos.

Tela de exibição e tela de toque: como materiais -chave em smartphones, tablets e outros dispositivos de exibição.

Pesquisa e médico: usado em laboratórios e equipamentos médicos, onde são necessárias alta transparência e estabilidade química.

A placa de vidro de sílica fundida ultra fina é amplamente utilizada em campos de alta tecnologia, especialmente nas indústrias ópticas, eletrônicas e semicondutores devido às suas propriedades únicas.

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