Placa de vidro de sílica fundida ultrafina

A placa de vidro de sílica fundida ultrafina é um material de alta tecnologia, famoso por suas excelentes propriedades físicas e químicas.

A placa de vidro de sílica fundida ultrafina é um material de silicato amorfo extremamente fino feito de dióxido de silício de alta pureza (SiO2) por meio de processos especiais de fusão e resfriamento. Eles normalmente têm espessura que varia de dezenas a centenas de micrômetros, alta transparência, excelente resistência ao calor, boa estabilidade química e baixo coeficiente de expansão térmica.

Alta transparência: a placa de vidro de sílica fundida ultrafina tem transparência extremamente alta na luz visível e no espectro infravermelho próximo, o que é adequado para aplicações ópticas.

Resistência a altas temperaturas: Este tipo de painel de vidro pode manter a estabilidade em temperaturas extremamente altas, com ponto de amolecimento muito superior ao do vidro comum, normalmente acima de 1600°C.

Estabilidade química: a placa de vidro de sílica fundida ultrafina tem resistência extremamente alta à maioria dos produtos químicos, incluindo ácidos, álcalis e solventes orgânicos.

Baixo coeficiente de expansão térmica: Possui coeficiente de expansão térmica muito baixo, o que torna a mudança de tamanho extremamente pequena quando a temperatura muda, tornando-o adequado para aplicações que requerem controle preciso de temperatura.

Resistência mecânica: Apesar de ultrafina, esse tipo de placa de vidro ainda possui certa resistência mecânica, tornando-a adequada para dispositivos eletrônicos e ópticos de precisão.

Isolamento elétrico: a placa de vidro de sílica fundida ultrafina é um bom material de isolamento elétrico, adequado para indústrias eletrônicas e elétricas.

Recursos do aplicativo:

Aplicação óptica: devido à sua alta transparência e excelente desempenho óptico, a placa de vidro de sílica fundida ultrafina é frequentemente usada para fabricar dispositivos ópticos, como lentes, janelas e grades.

Dispositivos eletrônicos: usados ​​como camadas de isolamento, substratos e materiais de embalagem nas indústrias de semicondutores e eletrônica.

Sensores e Instrumentos: Adequados para a fabricação de componentes-chave em sensores de alta precisão e instrumentos científicos.

Áreas de aplicação:

Fabricação de semicondutores: Usado como máscara de fotolitografia, transportador de wafer e tratamento de alta temperatura no processo de fabricação de semicondutores.

Instrumentos ópticos: Componentes ópticos usados ​​em microscópios, espectrômetros e outros instrumentos ópticos.

Tela de exibição e tela sensível ao toque: como materiais-chave em smartphones, tablets e outros dispositivos de exibição.

Pesquisa e Medicina: Utilizado em laboratórios e equipamentos médicos onde são necessárias alta transparência e estabilidade química.

A placa de vidro de sílica fundida ultrafina é amplamente utilizada em campos de alta tecnologia, especialmente nas indústrias óptica, eletrônica e de semicondutores devido às suas propriedades únicas.

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