직경 0.5-500 mm 고순도 용융 실리카 플레이트

고순도 용융 실리카 플레이트는 고순도 실리카(SiO2)로 만들어진 특수 석영 소재로, 우수한 물리적, 화학적 특성을 많이 가지고 있습니다.

1. 물리적 특성

고순도: 정밀한 제조 공정을 통해 용융 실리카의 불순물 및 불순물 함량을 일반적으로ppm(백만분율) 범위 내로 극도로 낮은 수준으로 줄일 수 있습니다.

고온 저항 : 연화점 온도는 약 1730 ° C로 1100 ° C에서 오랫동안 사용할 수 있으며 단기 사용 온도는 1450 ° C에 도달 할 수 있습니다.

낮은 열팽창계수: 열팽창계수가 매우 낮아서 극심한 온도 변화에도 견딜 수 있고 극한의 온도에서도 안정성을 유지할 수 있습니다.

2. 화학적 성질

내식성 : 불산, 열인산을 제외하고는 다른 산과 화학적으로 거의 반응하지 않아 내식성이 우수합니다.

화학적 안정성: 또한 다른 엔지니어링 재료와 비교할 수 없을 정도로 고온에서 탁월한 화학적 안정성을 나타냅니다.

3. 광학적 특성

높은 광선 투과율: 높은 광선 투과율과 낮은 광흡수율을 가지며, 가시광선, 적외선, 자외선 등 다양한 파장 범위의 빛을 투과할 수 있으며 높은 광학적 선명도와 투과율을 유지할 수 있습니다.

4. 기계적 특성

높은 경도: 용융 실리카는 경도와 강도가 높아 기계적 응력과 압력에 덜 민감합니다.

내마모성 : 내마모성이 우수하여 높은 내마모성이 요구되는 환경에 사용하기에 적합합니다.

5. 적용 분야

우수한 성능으로 인해 고순도 용융 실리카 플레이트는 다음 분야에서 널리 사용됩니다.

전자 분야: 고주파 절연 재료 제조에 사용됩니다.

광학장: 투명성이 높기 때문에 광학 기기 제조에 자주 사용됩니다.

건축 : 내구성과 안정성이 좋아 장식재로 사용됩니다.

기타 분야 : 반도체, 신에너지, 신소재, 기타 첨단기술 분야 등

고순도 용융 실리카 플레이트는 고온 저항, 내식성, 낮은 열팽창 계수 및 우수한 광학 특성을 갖춘 일종의 고성능 산업 재료입니다. 그것은 많은 첨단 기술 분야에서 널리 사용됩니다.

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