直径0.5〜500 mmの高さ純度融合シリカプレート

高純度の融合シリカプレートは、高純度シリカ（SIO2）で作られた特別な石英材料であり、多くの優れた物理的および化学的特性を備えています。

1。物理的特性

高純度： 微細な製造プロセスを通じて、融合シリカの不純物と不純物の含有量は、通常はPPM（100万分の1）範囲内で非常に低いレベルに削減できます。

高温抵抗： 軟化点温度は約1730°Cで、1100°Cで長時間使用でき、短期使用温度は1450°Cに達する可能性があります。

熱膨張係数が低い： 熱膨張係数は非常に低く、深刻な温度変化に耐えることができ、極端な温度でも安定性を維持できます。

2。化学的特性

腐食抵抗： ヒドロフル酸とホットリン酸を除き、他の酸と化学的に反応することはほとんどなく、優れた耐食性を提供します。

化学物質の安定性： 他のエンジニアリング材料と比類のない高温で優れた化学的安定性も示します。

3。光学特性

高光透過率： 可視光、赤外線光、紫外線などのさまざまな波長範囲で光を伝達することができ、光学的透明度と透過率を維持することができます。

4。機械的特性

硬度が高い： 融合したシリカは硬度と強度が高く、機械的なストレスや圧力の影響を受けにくくなります。

耐摩耗性： 耐摩耗性が高い環境での使用に適した優れた耐摩耗性。

5。アプリケーションフィールド

その優れた性能により、高純度の融合シリカプレートは、次の分野で広く使用されています。

エレクトロニクスフィールド： 高周波絶縁材料の製造に使用されます。

光学分野： その透明度が高いため、光学器具の製造によく使用されます。

構造： 耐久性と安定性のための装飾材料として使用されます。

その他のフィールド：半導体、新しいエネルギー、新しい材料、その他のハイテクフィールドなど。

高純度融合シリカプレートは、高温抵抗、腐食抵抗、低熱膨張係数、優れた光学特性を備えた一種の高性能産業材料です。多くのハイテク分野で広く使用されています。

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