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고온 반응 용기 석영 판

  • 고온 반응 용기 석영 판

  • 고온 반응 용기 쿼츠 플레이트는 고순도 석영 재료로 만들어진 플레이트의 한 유형입니다.

  • 루버르 석영

  • 99.99%

  • 진공 PVC 백으로 내부와 기포 필름으로 싸인 나무 상자와 함께 외부.

  • 고객의 요구 사항에 따라

유효성:

고온 반응 용기 석영 판


고온 반응 용기 쿼츠 플레이트는 고순도 석영 재료로 만들어진 플레이트의 한 유형입니다.

주요 기능 :

-높은 온도 저항 : 석영 플레이트는 최대 1500 ℃의 온도를 견딜 수 있으며, 용융점은 약 1700 ℃이며, 고온 환경에서 구조적 안정성을 유지할 수 있습니다.

-높은 화학적 불활성 : 석영 판은 대부분의 화학 물질에 대한 내식성이 매우 높으며 강한 산 (수경 플루오르 산 제외)과 약한 염기를 견딜 수있어 고순도 화학 반응에 적합합니다.

-열 팽창 계수 : 석영 플레이트의 열 팽창 계수는 매우 낮으며 (약 5.5 × 10 °/℃) 온도가 변할 때 쉽게 변형되지 않습니다.

-광학 투명성 : 석영 플레이트는 자외선에서 적외선 파장 범위에서 투명성이 우수하여 광학 모니터링이 필요한 반응에 적합합니다.


고온 반응 용기 석영 판


애플리케이션

고온 반응 용기 석영 플레이트는 다음 분야에서 널리 사용됩니다.

-화학 산업 : 고온, 고압 및 강한 부식 조건 하에서 화학 반응을 위해 반응 용기의 안감 재료 또는 반응 용기로 직접 제작 된 안감 재료로 사용됩니다. 예를 들어, 고급 화학 물질의 생산에서 석영 플레이트는 반응물과 용기 벽 사이의 화학 반응을 효과적으로 예방할 수 있습니다.

-Semiconductor 제조 : 공정 안정성 및 재료 순도를 보장하기 위해 고온 확산, 산화 및 반도체 재료의 기타 공정에 사용됩니다. 석영 플레이트는 고순도 및 안정성으로 인해 광고 마스크 기판 및 통합 회로를 제조하는 데 사용됩니다.

-Photocatalysis 및 photerchemical 반응 : 석영 플레이트의 광학적 투명성은 Tio ₂, ZnO 등과 같은 광촉매 물질의 제조에 적합합니다.

-재료 과학 : 열수 합성 및 나노 물질의 결정 성장과 같은 고온 및 고압 반응에 사용됩니다.

-의료 분야에서 석영 플레이트는 주사기, 주입 세트 등과 같이 인체와 접촉하는 의료 기기를 제조하는 데 사용될 수 있습니다. 생체 적합성 및 고온 저항은 인체 건강에 대한 피해를 줄일 수 있습니다.


고온 반응 용기 석영 플레이트


맞춤형 설명

고온 반응 용기 석영 플레이트는 특정 요구에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다.

-크기와 모양의 커스텀 화 : 쿼츠 플레이트의 크기와 모양은 다른 프로세스 요구 사항을 충족시키기 위해 반응 용기의 설계 요구 사항에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다.

-PURITION 요구 사항 : 고급 화학 반응의 경우, 석영 플레이트의 순도는 99.999% 이상에 도달하여 불순물 오염을 방지 할 수 있습니다.

-표면 처리 : 쿼츠 플레이트는 표면 부드러움을 개선하고 스트레스 결함을 줄이기 위해 연마 할 수 있습니다.

-특성 성능 사용자 정의 : 응용 프로그램 요구 사항에 따라 석영 플레이트는 광학 성능 또는 기계적 강도 향상과 같은 특수 처리 또는 처리를 겪을 수 있습니다.


석영 특성


Luverre Quartz는 석영 튜브, 석영 판, 석영 막대, 석영 창, 석영 도가족, 석영 보트, 석영 플랜지, 석영기구 등을 포함하여 광범위한 고품질 석영 유리를 제조하고 판매합니다. 석영 유리 제품에 대한 모든 종류의 맞춤형 요구 사항을 충족 할 수 있습니다.

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