칩 제조 용 정밀 구성 요소 2-100mm 쿼츠로드

2-100mm 쿼츠로드는 반도체 제조의 정밀 구성 요소로, 고온 저항, 부식성 및 투명성이 높은 특성을 갖춘 고급 쿼츠로 만들어져 반도체, 광섬유 통신, 태양 전지판 및 기타 응용 분야의 핵심 재료입니다. 이러한 특성으로 인해 석영 막대는 과학, 산업 및 전자 제품과 같은 분야에서 필수적인 역할을합니다. 석영 막대는 주로 융합 실리카 및 수화 석영을 포함한 고급 쿼츠 유리로 만들어집니다. 융합 실리카는 고품질을 가지며 초 미세 석영 막대를 생산하는 데 적합한 반면, 수화 된 석영은 두꺼운 석영 막대를 생산하는 데 더 적합합니다. 석영 막대의 생산 공정에는 정확한 연삭 및 연마 및 형광 감지가 필요하며 내부 품질을 보장하고 성능을 최적화해야합니다.

반도체 제조에서, 석영 막대는 반응 챔버의지지 구조로서 작용하고 고온에서 화학 반응을 견딜 수 있습니다. 광섬유 통신의 분야에서, 석영 막대를 그리는 쿼츠 광 섬유는 정보 전송을위한 핵심 구성 요소입니다. 태양 전지판의 생산에서 석영 막대는 고온 스토브를 제조하는 데 사용하거나 다른 고온 장비의 구성 요소로 사용될 수 있습니다. 석영 막대는 강한 화학적 안정성을 가지며 실험 시약과 쉽게 반응하지 않으므로 특히 고온 또는 부식 실험을 수행 할 때 테스트 튜브, 비이커 및 기타 실험 용기의 대체물로 사용됩니다. 또한, 석영 막대는 분광계 생산에 사용되는 광학 성분과 같은 우수한 투명성으로 인해 스펙트럼 분석 및 광학 실험에서 중요한 도구가되었습니다.

석영 제품은 반도체 제조 공정에서 중요한 역할을합니다. 여기에는 석영 유리 튜브, 석영 유리 막대, 석영 유리 시트, 융합 석영 유리 튜브 (퍼니스 코어 튜브), 융합 석영 유리 막대, 석영 유리 보트, 석영 유리 도가니 등, 반도체, 항공증, 광학 및 세 가지 통신과 같은 분야에서 널리 사용됩니다. 이 석영 제품은 원료로 석영 모래로 만들어졌으며, 가스 정제를 통해 처음으로 석영 잉곳으로 녹은 다음 열 변형 및 냉간 가공을 통해 제조됩니다. 반도체 석영 제품에서, 이들 제품은 다양한 작업 환경 온도에 따라 고온 구역 장치 및 저온 영역 장치로 나눌 수 있습니다. 그 중에서도 고온 장치는 주로 확산 및 산화와 같은 고온 공정에서 주로 사용되는 반면, 저온 장치는 주로 에칭, 포장, 포토 리소 그래피 및 청소와 같은 저온 공정에서 주로 사용됩니다.

석영 재료의 적용은 또한 통합 회로 칩의 제조 공정에서 중요합니다. 예를 들어, 포토 리소그래피는 칩 제조에서 가장 핵심적이고 복잡한 공정 단계 중 하나이며,이 프로세스를 수행하기위한 주요 장비로서 칩 제조에서 가장 핵심적이고 복잡한 공정 단계 중 하나이며,이 공정을 수행하기위한 주요 장비로서 실리콘 웨이퍼에서 회로 패턴을 전송하여 트랜지스터의 최소 특징 크기와 밀도를 결정함으로써 작동합니다. 석영 재료는이 과정에서 필수적인 역할을합니다.

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