반도체 등급 고순도 쿼츠 튜브

반도체 등급의 고급 쿼츠 튜브는 특수 가공을 통한 원료로서 고순도 이산화물 (SIO _ 2)으로 만든 석영 제품입니다. 그 순도는 일반적으로 99.99%이상이고, 불순물 함량은 매우 낮으며, 고온 저항, 부식성, 낮은 열 팽창 계수, 높은 절연 및 우수한 스펙트럼 전송이 있습니다. 이러한 특성으로 인해 반도체 제조 공정에서 필수적인 주요 자료가됩니다.

특정 기능은 다음과 같습니다.

고순도 : 불순물 함량은 10 ppm 미만이므로 물질 순도에 대한 반도체 산업의 엄격한 요구 사항을 충족시킵니다.

고온 저항 : 최대 1200 ° C의 환경에서 고온 처리에 적합한 환경에서 안정적으로 작동 할 수 있습니다.

부식 저항성 : 대부분의 화학 시약에서 부식에 매우 저항력이 있습니다.

낮은 열 팽창 계수 : 고온 환경에서 우수한 치수 안정성으로 공정 정확도를 보장합니다.

높은 광 투과율 : 광학 관련 공정에 적합한 특정 스펙트럼 범위에서 우수한 광 전송.

애플리케이션

반도체 등급의 고급 쿼츠 튜브는 반도체 산업, 특히 칩 제조의 핵심에서 널리 사용됩니다. 특정 응용 프로그램 시나리오에는 다음이 포함됩니다.

웨이퍼 제조 :

석영 Crucible : 단결정 실리콘을 그리는 데 사용되는 실리콘 웨이퍼 제조의 핵심은 핵심입니다.

석영 보트 및 브래킷 : 확산, 산화, CVD 증착 및 기타 공정과 같은 고온 처리를 위해 실리콘 웨이퍼를 운반합니다.

통합 회로 제조 :

확산 튜브 : 실리콘 웨이퍼의 확산 공정에 사용되는이 제품은 가장 널리 사용되는 석영 제품 중 하나입니다.

에칭 및 리소그래피 프로세스 :로드 베어링 장치, 프로세스의 안정성과 정확성을 보장합니다.

세척 탱크 : 표면 청결을 보장하기 위해 실리콘 웨이퍼를 청소하는 데 사용됩니다.

기타 반도체 장비 :

석영 플랜지 및 튜브 : 확산 용광로, 산화 용광로 및 기타 장비에 사용되어 석영 보트의 진입 및 출구를 지원합니다.

광학 장치 : 높은 광 투과율은 리소그래피와 같은 광학 공정에서 우수합니다.

사용자 정의 설명

다양한 반도체 프로세스의 요구를 충족시키기 위해 반도체 등급의 고급 쿼츠 튜브는 다음을 포함하여 맞춤형 생산을 지원합니다.

크기 사용자 정의 :

다양한 장비 및 사용 시나리오에 적응하기 위해 고객 요구에 따라 다양한 직경, 길이 및 벽 두께의 석영 튜브를 사용자 정의 할 수 있습니다.

표면 처리 :

표면 연마, 코팅 및 기타 처리 과정을 제공하여 부식 저항 또는 광학적 특성을 향상시킵니다.

특수 모양 처리 :

복잡한 기술 요구 사항을 충족시키기 위해 특수 모양의 석영 튜브, 구멍이있는 석영 부품 또는 플랜지 구조물을 처리 할 수 ​​있습니다.

양산:

공급의 안정성과 일관성을 보장하기 위해 대량 사용자 정의 생산을 지원합니다.

성능이 뛰어나면서 반도체 급 고급 쿼츠 튜브는 반도체 제조에 없어서는 안될 핵심 재료가되었습니다. 맞춤형 생산을 통해 다양한 프로세스 링크의 재료에 대한 특정 요구 사항을 충족하여 반도체 산업에 고품질 및 고출성 솔루션을 제공 할 수 있습니다.

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