반도체 제조용 외경 20mm 석영관

반도체 제조에 사용되는 외경 20mm 석영관은 중요한 공정 재료입니다.

석영관의 특성:

고순도: 석영 튜브는 주로 순도 99.9% ~ 99.998% 범위의 고순도 석영(SiO2)으로 만들어집니다.

고온 저항: 석영 재료는 매우 높은 내열성을 가지며 최대 1150°C의 온도에서 장기간 사용할 수 있으며 단시간에 최대 사용 온도는 1730°C입니다.

화학적 안정성: 석영 튜브는 화학적 특성 측면에서 매우 안정적이며 산성 또는 알칼리성 물질과 쉽게 반응하지 않습니다.

낮은 열팽창 계수: 석영은 열팽창 계수가 낮고 온도 변동에 따른 부피 변화가 최소화됩니다.

우수한 절연성: 석영관은 전기 절연성이 우수합니다.

석영관의 응용:

반도체 제조: 석영 튜브는 에피택시, 포토리소그래피, 확산, 산화, 세척, CVD, RTP, PVD, 에칭 등과 같은 반도체 제조의 여러 공정 단계에서 널리 사용됩니다.

캐리어 장치 및 캐비티 소모품: 석영 튜브는 반도체 에칭, 확산, 산화 및 기타 공정에서 캐리어 장치 및 캐비티 소모품으로 사용됩니다.

석영 절연 튜브: 특히 반도체 제조에서 석영 절연 튜브는 고순도 및 높은 내열성으로 인해 없어서는 안 될 부품이 되었습니다.

석영관 사양:

반도체 등급 석영 튜브의 외경 범위는 적용 요구 사항에 따라 100mm~900mm 등 다양한 사양을 가질 수 있습니다.

외경 20mm의 석영관은 반도체 제조에서 중요한 역할을 하며, 독특한 물리적, 화학적 특성으로 인해 이 분야의 핵심 소재입니다.

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