Amorfe optische kwartsglasplaat met lage thermische uitzettingscoëfficiënt

Amorfe optische kwartsglasplaat met lage thermische uitzettingscoëfficiënt is een speciaal industrieel technisch glas dat voornamelijk is gemaakt van zeer zuiver siliciumdioxide (SiO2). Dit type glas speelt een belangrijke rol in veel hightech-gebieden vanwege de uitstekende fysische en chemische eigenschappen.

De belangrijkste kenmerken van optische kwartsglasplaten zijn onder meer:

Hoge zuiverheid: Kwartsglas heeft een zeer hoge zuiverheid en wordt voornamelijk gemaakt door het smelten van puur kwarts (zoals kristal, kwartszand etc.).

Lage thermische uitzettingscoëfficiënt: de lineaire uitzettingscoëfficiënt van kwartsglas is zeer klein, slechts 1/10 tot 1/20 van gewoon glas, waardoor het een goede maatstabiliteit behoudt bij temperatuurveranderingen.

Hoge temperatuurbestendigheid: Kwartsglas heeft een hoge hittebestendigheid, wordt vaak gebruikt bij temperaturen van 1100 tot 1200 ℃, en is op korte termijn bestand tegen hoge temperaturen tot 1400 ℃.

Optische prestaties: De optische prestaties van kwartsglas zijn zeer betrouwbaar, met uitstekende doorlaatbaarheid in het continue golflengtebereik van ultraviolette tot infrarode straling.

Chemische stabiliteit: Kwartsglas is goed bestand tegen de meeste zuren, behalve fluorwaterstofzuur en heet fosforzuur.

Vanwege deze kenmerken wordt kwartsglas veel gebruikt in hoogwaardige laboratoriumapparatuur, extractieapparatuur voor speciale producten met een hoge zuiverheidsgraad en in velden waar glas met uitstekende optische prestaties vereist is. Het is ook een ideaal materiaal voor ruimtevaartuigen, windtunnelramen en optische systemen voor spectrofotometers.

Amorfe optische kwartsglasplaat met lage thermische uitzettingscoëfficiënt is een hoogwaardig materiaal met brede toepassingsmogelijkheden.